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等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積爐(PECVD系統(tǒng))PX 3074
化學(xué)氣相沉積爐(CVD系統(tǒng))PX 2815
CVD化學(xué)氣相沉積裝置PX 3178
CYRANNUS微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2848
臺階儀PX 1600
PlasmaPro 80 PECVDPX 950
PECVD-500A-D智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))PX 2731
scrubber全類型尾氣處理設(shè)備-scrubberPX 2370
FPCHE-CVD獨(dú)立式化學(xué)氣相沉積(CVD)系統(tǒng)PX 2686
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 2734
ZT-60-15立式化學(xué)氣相沉積爐PX 4008
GS-30-700廣樹CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機(jī)PX 3506
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1766
FL-800N低溫化學(xué)氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗(yàn)用冷水機(jī)PX 6964
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3079
轉(zhuǎn)移多壁碳納米管垂直陣列(化學(xué)氣相沉積法)PX 2876
PECVDPX 2961
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2314
金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積PX 2828
TF1200-PECVD型等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3469
TF-1200-PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3139
非標(biāo)定制化學(xué)氣相沉積LPCVDPX 0
非標(biāo)定制等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 PECVDPX 0
非標(biāo)定制熱絲CVD化學(xué)沉積系統(tǒng)PX 0
氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 1600
PlasmaPro 800 PECVDPX 950
PlasmaPro 80 ICPCVDPX 950
PlasmaPro 100 PECVDPX 950
PlasmaPro 1000PX 950
PlasmaPro 100 ICPCVDPX 950
MOCVD設(shè)備 PC-008MOCVD設(shè)備PX 0
LPCVD設(shè)備 PC-007LPCVD設(shè)備PX 0
PECVD設(shè)備 PC-006PECVD設(shè)備PX 0
熱絲CVD PC-005熱絲CVD金剛石設(shè)備PX 0
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 0
HMPS-2060SP微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐PX 0
GKD-CVD薄膜材料制備化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD爐PX 0
CVD氣相沉積系統(tǒng) 化學(xué)氣相 沉積爐PX 0
1200℃ CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)單晶制備管式爐PX 0
DH-30-700大華CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機(jī)PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
臺階儀
氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
PlasmaPro 80 PECVD
PlasmaPro 800 PECVD
PlasmaPro 80 ICPCVD
PlasmaPro 100 PECVD
PlasmaPro 1000
PlasmaPro 100 ICPCVD
智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營許可證
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