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CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統PX 3175
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統PX 1924
ALD R-200原子層沉積系統PX 2768
AT-610原子層沉積系統PX 3361
EC400熱蒸發鍍膜設備PX 2417
Compact ALD臺式原子層沉積鍍膜系統PX 2939
GM100/1000粉末原子層沉積設備PX 2355
Evap-4 Power Supply電子束蒸發電壓控制器PX 2610
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設備PX 2285
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2792
CVD化學氣相沉積設備PX 3528
FL-800N物理氣相沉積設備(PVD)冷水機-冷卻系統PX 6714
FPCTE-Play-ALD等離子體增強原子層沉積系統PX 3574
FPGEOL-PFG-03C-filmroll全色激光全息膜卷PX 2890
C2GR16-氣相沉積爐PX 2740
CC-200日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備PX 4395
PICOSUN R-200標準型ALD系統PX 1550
SAL1000G原子層沉積系統PX 3300
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
日本原產Microphase分子束外延系統完善售后服務PX 3420
ACU20FDH-LH沉積設備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 3392
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3085
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 1523
TFS 200原子層沉積研究設備PX 1950
微波等離子化學氣相沉積系統PX 2999
超高真空磁控濺射外延系統PX 3802
國產PLD脈沖激光分子束外延裝置PX 1895
CVD化學氣相沉積裝置PX 2994
P 系列粉末原子層沉積系統PX 3292
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 3796
等離子體化學氣相沉積設備PX 2283
VE-2012日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統PX 5370
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 3149
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統PX 3353
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統PX 3631
AT-410原子層沉積系統PX 3361
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學氣相沉積系統PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
MS450實驗室真空鍍膜設備PX 2417
EC400有機-金屬真空熱蒸鍍儀PX 2417
薄膜生長設備
工藝測量和檢測設備
集成電路測試與分選設備
光刻及涂膠顯影設備
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硅片制備/晶體生長設備
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干法工藝設備
濕法工藝設備
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其它半導體行業儀器設備
Evap-4 Power Supply電子束蒸發電壓控制器
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發器
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源
Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統
Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統
Nikalyte NL-50磁控濺射儀
全色激光全息膜卷
原子層沉積系統
真空等離子體涂覆薄膜沉積設備
日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統
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