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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備> PECVD

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PECVD

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 合肥康帕因設備技術有限公司是應材料界老客戶呼吁而成立的專業致力于材料制備、真空鍍膜、真空檢測、等離子清洗、鍍膜等設備的研發、生產型企業。公司擁有過硬的技術團隊,可在材料研究、真空檢漏、真空鍍膜、等離子清洗等領域為您排憂解難。
CPI 技術力量來源于材料類工業生產設備要求,以及與國外同行業間的技術合作,產品設計*,注重細節,質量可靠,售后無憂。CPI設備廣泛應用于新能源材料,金屬材料,磁性材料,半導體材料,陶瓷材料,電化學,薄膜材料,CVD,PECVD ,石墨烯,碳納米管,碳納米線,光學材料,齒科等研究領域。
CPI將工業生產設備技術要求應用于實驗設備,設備性能更加穩定可靠,工藝重復性強。
CPI的理念是以客戶為根本(customer),以人才為基礎(personnel),以創新求發展(innovation)。我們將秉承這一理念,為每一個客戶提供全套方案!
CPI企業文化:厚德載物,自強不息。以人為本,敬職敬業。
CPI經營理念:誠信務實,創新致遠。品質*,服務至上。




熱處理設備,高溫爐、CVD/PECVD、真空系統、晶體、耗材等

  PECVD化學氣相沉積設備質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統,其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數管式爐配套使用時,可將設備置于移動柜上以節約空間。
 
  工作溫度:5~45?C
 
  zui大壓力:3x106 Pa
 
  精度: ±1.5% FS
 
  線性:±(0.5-1.5)%F.S
 
  重復精度: ±0.2%F.S.
 
  流量范圍:
 
  一路:1~199 SCCM
 
  二路:1~499 SCCM
 
  PECVD注意:其他流量范圍的可定制,需額外費用
 
  化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫;PLC控制5路質子流量器,能夠精確控制系統的供氣;真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統)常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設備技術參數


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