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Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVDPX 2727
VP-RS20等離子體刻蝕機PX 3637
SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機PX 3618
CGST3100全自動干法去膠機PX 1550
RIE半導體刻蝕機PX 7243
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 5065
TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統PX 2517
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 2014
FPTOR-RIE600W反應離子刻蝕機系統PX 3124
LT-400G過程臭氧分析儀半導體干法清洗設備專用PX 2165
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1423
Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 3217
customizedCMP后清洗機PX 1950
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 2355
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 1426
離子污染測定儀PX 1933
VP-RS15等離子刻蝕機PX 3637
CG-P系列等離子清洗機PX 1550
CGST3100全自動去膠機PX 1550
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導體刻蝕機PX 7243
PLUTO-E100科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統PX 5065
干式超聲波清洗機PX 0
ICP等離子刻蝕機PX 5065
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感應耦合反應離子刻蝕系統PX 3124
FPSEM-icp200e-ICPVCD電感耦合等離子體化學氣相沉積系統PX 3124
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500PX 1423
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機PX 0
customized晶圓甩干機PX 1950
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設備PX 1950
customized-12反應性離子刻蝕系統RIEPX 1950
RIE-200CRIE等離子刻蝕設備PX 1950
Ionfab 300 IBE離子束刻蝕系統IBEPX 1950
customized-14深硅刻蝕系統DEEP SI ETCHPX 1950
RIE-800iP等離子體刻蝕設備PX 1950
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設備PX 1950
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設備PX 1950
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設備PX 1950
RIE-800iPC等離子體刻蝕設備PX 1950
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統PX 1950
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Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
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森泰克刻蝕機Etchlab 200
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500
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大氣常壓等離子處理機器
過程臭氧分析儀半導體干法清洗設備專用
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