一、原理與核心技術

實驗室超聲波清洗機通過高頻超聲波換能器（典型頻率為20-40kHz）在清洗液中產生數百萬個微米級空化氣泡。這些氣泡在聲波作用下迅速振蕩、膨脹并破裂，形成局部高溫（約5000K）、高壓（約100MPa）的微射流，瞬間剝離污染物（如油污、顆粒、氧化層等），實現對復雜表面的深度清潔。設備支持多種清洗模式，包括單頻、雙頻交替或脈沖超聲，可針對不同材質（如玻璃、金屬、塑料、陶瓷）和污漬類型（有機/無機）優化效果。

二、關鍵性能參數

頻率與功率

低頻（20-28kHz）：適合大顆粒污漬和重油污清洗（如機械零件、反應釜）。

高頻（35-40kHz）：用于精密部件（如晶圓、微電極）的細微污染清除。

功率可調范圍通常為10-100W，部分工業級設備可達500W以上。

容量與內槽材質

小型臺式機型容量為0.5-5L，中型機可達10-30L，大型工業設備超過100L。

內槽材質以316L不銹鋼為主，耐腐蝕型號可選PTFE（聚四氟乙烯）或PVDF涂層，避免化學腐蝕。

溫度控制

加熱功能（常溫~80℃）可加速分子運動，提升清洗效率，部分機型支持恒溫調節（±1℃）。

脫氣功能（通過真空或惰性氣體置換）去除清洗液中的溶解氣體，防止“屏蔽效應”。

計時與程序控制

數字控制面板支持1-999分鐘定時，部分機型可存儲多組預設程序（如不同樣品對應不同參數）。

三、核心優勢

無損清潔

非接觸式清洗避免機械刮擦，適用于脆弱樣品（如光學鏡片、PCR管、半導體晶圓）。

可處理復雜幾何結構（如盲孔、縫隙、毛細管）清除傳統擦拭難以觸及的污染物。

高效均勻

超聲波穿透力強，清洗速度比人工擦拭快10倍以上。

支持同時處理多件樣品（如20支離心管或1組培養皿），提升實驗效率。

環保節能

耗液量低（僅需淹沒樣品），可循環使用清洗劑（如乙醇、IPA、專用環保溶液）。

部分機型配備溶劑回收系統，減少危廢處理成本。

安全便捷

封閉式內槽設計防止液體飛濺，降噪技術（<60dB）降低實驗室干擾。

支持自定義程序，可與自動化流水線（如樣品前處理系統）集成。

四、應用場景

生命科學領域

清洗玻璃器皿（移液器吸頭、培養瓶）、金屬器械及塑料耗材。

清除生物污染物（如蛋白質殘留、細胞碎片），避免交叉污染。

材料與電子工程

半導體晶圓預處理（光刻膠去除、微粒清洗）、PCB板焊后助焊劑清理。

納米材料表面活化（如碳納米管、量子點）。

四、選型指南

根據樣品特性選擇頻率：

精密器件（如晶圓、微機電系統）：40kHz高頻機。

重型油污或大顆粒污漬（如機械軸承）：28kHz低頻機。

容量匹配需求：

個人實驗選5L以下臺式機；團隊或批量處理選10-30L中型設備。

功能擴展性：

加熱、脫氣、掃頻功能提升復雜污漬處理能力。

防爆型號適用于易燃溶劑（如丙酮、酒精）