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2022
11-04

超聲波清洗機使用時有哪些注意事項
超聲波淸洗機原理主要是將換能器，將功率超聲頻源的聲能，并且要轉換成機械振動，通過淸洗槽壁使之將槽子中的淸洗液輻射到超聲波。由于受到輻射的超聲波，使之槽內液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動。凡是液體能浸到且聲場存在的地方都有淸洗作用，其特點適用于表面形狀非常復雜的零件的淸洗。尤其是采用這一技術后，可減少化學溶劑的用量，從而大大降低環境污染。超聲波清洗機的使用注意事項1、放置清洗清洗物不直接接觸空腔的底部，請把一不銹鋼籃中的操作。請除去大顆粒，銹渣和其它沉積物，這些物質會引起同樣的傷害到清
2022
11-03

使用1800℃小型箱式爐時要格外注意這些
1800℃小型箱式爐適用于實驗室、工礦企業、科研院所、大專院校供暖，用于一般小型鋼件及淬火、退火、回火等熱處理的元素分析和測定，還可用于金屬、陶瓷的燒結、溶解、分析等高溫加熱。外殼采用優質冷軋鋼板，表面噴涂。箱式爐的外殼由薄鋼板折疊焊接而成，其爐膛由高鋁耐火材料制成的箱形爐襯組成。發熱元件采用鐵鉻鋁合金絲，繞成螺旋狀后擰入爐襯的上、下、左、右線槽內。發熱元件與線槽連接，可直接向爐體散熱。這樣可以有效加快爐子的加熱速度，進一步提高溫度控制精度。硅酸鋁纖維氈、硅藻、土磚也用作箱式爐內襯與爐殼之間的保
2022
10-18

1200℃開啟式管式爐開爐的操作規程是怎樣的？
1200℃開啟式管式爐爐管可以配置為60mm或80mmO.D.的高純度剛玉管。爐管兩端安裝了一對不銹鋼真空法蘭（不銹鋼針閥和寶塔噴嘴接頭），因此樣品可以在真空或大氣保護下進行燒結。精確的溫控系統包括30條溫升和溫降曲線設置，其溫控精度達到+/-1℃。1200℃開啟式管式爐開爐的操作規程是怎樣的？1、打開管式爐的主電源，啟動風扇。2、打開面板電源（順時針轉動鎖定旋鈕），啟動面板。3、使儀器處于初始狀態（即PV顯示數值，SV閃動停止）。如果不在此狀態，按向上鍵重置儀器，使儀器只處于測量和顯示狀態。4
2022
10-11

真空蒸鍍的流程工藝
真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術，具有成膜方法簡單、薄膜純度和致密性高、膜結構和性能等優點。真空蒸鍍的流程工藝1、脫脂處理用丙酮或酒精進行清洗2、表面處理(必要時)電暈(corona)放電處理，紫外線照射處理等。3、底面涂布/硬化處理(必要時)為了得到精美的蒸鍍膜，有時必須進行底面涂布處理。進行底面涂布處理可以得到以下的效果:(1)、改善樹脂與蒸鍍膜之間的密
2022
10-08

使用箱式爐時要注意這些
箱式爐的控制系統與爐子融為一體，爐襯由真空成型的高純度氧化鋁高分子輕質材料制成。采用高溫合金電阻絲（含鉬，爐絲表面溫度可達1400℃）或硅碳棒作為加熱元件；控制面板上裝有智能溫度調節器、控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕、電壓、安培表、電腦接口，以便隨時觀察系統的工作狀態。本產品采用可靠的集成電路，具有良好的工作環境和抗干擾性。爐殼最高溫度≤45℃時，工作環境大為改善。微電腦程序控制，可編程曲線，全自動加熱/冷卻，運行中可修改溫度控制參數和程序，靈活、方便、易操作。箱式爐采用閉環技術觸發可控硅模
2022
09-07

如何檢查退火爐的氣密性
退火爐是通過熱處理可以改變鋼的組織結構，從而改善鋼的性能。熱處理可以顯著提高鋼的機械性能，延長機器零件的使用壽命。退火爐是冷軋連續熱鍍鋅生產線中的重要設備，爐內氣氛直接影響產品的表面質量。爐內氣氛的好壞在很大程度上取決于爐子本身的氣密性。連續退火爐氣密性檢查的難點主要在于爐體面積大，管道復雜，可能出現泄漏的部位繁多。對氣密性的檢查要常規化、制度化。1、確定氣密性檢查的重點部位這些重點部位一般包括：1)檢修時更換設備的部位。檢修時動過的爐體和管道部分，都要作為檢查的關鍵部位。2)開啟過的頂蓋、底蓋
2022
09-07

熱噴涂和噴焊有區別嗎？熱噴涂鍍膜設備告訴你
表面工程是指對材料表面進行預處理后，改變金屬表面或非金屬表面的形貌、化學成分、微觀結構和結構，獲得表面特征的表面涂層、表面改性或各種表面工程固體復合處理技術。表面工程技術分為三大類：表面合金化、表面涂層和薄膜涂層技術和表面處理。表面合金化：包括噴焊和堆焊、離子注入、轉化膜技術、擴散滲透、激光熔鍍、熱滲透鍍等表面鍍膜和膜鍍技術：包括電化學沉積、化學沉積、氣相沉積、熱噴涂、電沉積電鍍、化學轉化處理、刷鍍、化學鍍、氣相沉積、涂層和堆焊、金屬染色、熱浸鍍等表面處理：包括激光電子束熱處理技術、噴丸、軋制和
2022
08-12

高真空蒸發鍍膜儀需要怎樣的維護和保養？
高真空蒸發鍍膜儀可提供大100A鍍膜電流，大蒸發溫度高達1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發。真空室采用高純石英，易于觀察鍍膜過程，易清洗；結合分子泵組，可達到5x10-4pa的極限真空度，有效保證氣相沉積膜的純度和附著力。全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡單，可鍍金（AU）、鉑（PT）等非氧化性貴金屬，也可鍍銥（IR）、鉻（CR）、鋁(AL)等細小顆粒易氧化膜材料。特別適用于場發射電鏡、透射電鏡樣品制備和非晶碳包覆膜/TEM網格支撐膜的制作，也可為薄膜應用等材料領域提供理想的鍍
2022
08-09

金剛石線切割的優勢以及需要提高的幾個方面
金剛石線可以分為電鍍金剛石線和樹脂金剛石線。金剛石切割線是通過一定的方法，將金剛石鍍覆在鋼線上制成，通過金剛石切割機，金剛石切割線可以與物件間形成相對的磨削運動，從而實現切割的目的。金剛石線切割機采用金剛石線單向循環或往復循環運動的方式，使金剛石線與被切割物件間形成相對的磨削運動，從而實現切割的目的。金剛石切割線相比傳統工藝有三大優勢：1)金剛石線切割漏損少，壽命長，切割速度快，切割效率高，提升產能；2)品質受控，單片成本低，金剛石線切割造成的損傷層小于砂漿線切割，有利于切割更薄的硅片；3)環保
2022
08-03

雙溫區管式爐這幾個操作小妙招你可以掌握一下
雙溫區管式爐可裝載四個不同材質的蒸發坩堝舟，可同時將兩個蒸發坩堝源送入管式爐內進行CO蒸發或反應蒸發?？蓪崿F快速加熱，通過在每個溫區設置不同的加熱溫度，形成不同的溫度梯度，實現蒸發沉積。雙通道進料系統可在程序控制下推拉兩個裝有不同蒸發材料的坩堝，實現共蒸發或反應蒸發，特別適用于多層二維晶體材料的制備。雙溫區管式爐內部有兩個溫區，可在300℃以內產生不同的溫度梯度；采用PID控制。溫控儀可設置30段升溫、降溫程序，每個溫區可單獨控制；采用KF快速法蘭密封，只需一個卡箍即可完成法蘭連接，放料、取料方
2022
07-25

你真的懂雙靶磁控濺射儀嗎？
磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、沉積薄膜均勻性好、成分接近靶材成分等優點。傳統濺射技術的工作原理是：在高真空條件下，入射離子（ar+）在電場作用下轟擊靶材，使靶材表面的中性原子或分子獲得足夠的動能，與靶材表面分離，沉積在基板表面形成薄膜。但是，電子會受到電場和磁場的影響而漂移，導致濺射效率低。短的電子轟擊路徑也會導致襯底溫度升高。為了提高濺射效率，在靶材下方安裝了強磁體，中心和圓周分別有N極和S極。由于洛倫茲力的作用，電子被束縛在靶材周圍并繼續做圓周運
2022
07-14

多功能試樣表面處理機制膜時可以設置三種模式
多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設備，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射，在高純氬氣保護下也可用于各種離子處理。本設備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本儀器配備機械泵和分子泵，分子泵系統特別適用于對真空度要求高、真空環境好的用戶。多功能試樣表面處理機將硅片放入真空反應系統，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號發生器產生高頻信號，從而形成強電磁場石英管中，氧氣被電離，形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電子混合而成的等離子體
2022
07-13

小小的蠕動泵能夠應用在哪些行業
蠕動泵是一種可控制流速的液體輸送裝置，具有輸送精度高、較強的耐腐蝕性、剪切作用小、操作簡單及易于維護等優勢，所以廣泛應用在科研、制藥、化工、環保、飲料、食品、印刷等各領域。其在科研實驗室常被用于細胞組織輸送、標本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送等。實驗室領域蠕動泵在小體積流體分配和計量方面具有很好的重復性精度。無需安裝任何閥，消除了流體常見的阻塞及虹吸現象。實驗室研發過程中常見的應用場合有：細胞組織輸送、標本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送。食品、化工領域許多現有泵管
2022
07-05

管式爐在使用過程中該如何對減壓閥進行通氣？
管式爐爐管內的壓力應保持在1個標準大氣壓，不得低于1個標準大氣壓或大于0.02MPa。這種方法可以保證爐管內的壓力在這個范圍內，氣瓶必須配備減壓閥。建議選擇0-0.6mpa范圍的減壓閥。不要選擇大范圍的減壓閥（如0-2.5mpa），這樣不準確，容易爆裂石英管。減壓閥開到0-0.05mpa為宜，不能超過0.05Mpa。當管式爐爐溫超過1000℃時，不允許在爐管內進行真空燒結。最好保持微正壓狀態，保護燒結氣氛。建議長時間使用的石英管溫度不超過11??00℃。如果您擔心氣壓太高或燃燒物有氣體排放，可以
2022
06-23

箱式爐淬火前需要做哪些準備工作？
箱式爐采用雙層外殼結構和PID程序控溫系統，移相觸發，可控硅控制。該爐采用氧化鋁多晶纖維材料制成，雙層爐殼之間裝有風冷系統，可快速升降溫。外殼整體密封，蓋板用硅膠泥密封，爐門用硅膠墊片密封，氣體通過流量計后進出后室。多爐進出口，可預抽真空，可通氬、氮氣、氧氣、惰性氣體等。爐具有溫度場平衡、表面溫度低、升降溫速度快、節能等優點，是大專院校、科研院所、工礦企業進行氣氛保護燒結和氣氛還原的理想產品。1、可接觸氣體：所有惰性氣體、氮氣、氬氣、氧氣、二氧化碳、水蒸氣等。2、外觀設計：采用人性化設計，美觀大
2022
06-15

管式爐使用前需要做好哪些準備工作？
管式爐是在沉底材料上生長優質石墨烯、碳納米管和碳化硅的專用設備，廣泛應用于半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、涂層等新材料和新工藝。它在使用前需要做好哪些準備工作呢？1、設計溫度升降曲線。升溫速率不得高于10℃/min，降溫速率應低于15℃/min。2、清潔環境。3、每周開始使用時，檢查機械泵油路是否在標線以上，取下兩端蓋板，用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣品舟推入剛性管式爐中間（恒溫長度10cm）。5、塞住兩個絕緣爐塞，使第二個爐塞的末端與爐體側面齊平。6、安裝燃氣爐法蘭，確認墊片落入凹槽內。管式
2022
06-10

你知道真空蒸鍍儀常見的蒸發源有幾種嗎
真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖程
2022
06-08

說起超聲波霧化模塊的優點那可真是太多了
噴涂一直存在于我們的生活中，長期以來被用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護性涂料。因此，它是材料科學家制備薄膜的又一工具。在噴涂中，噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數，以達到理想效果。使用超聲波霧化模塊，可使噴霧溶液均質化，霧滴大小得到有效控制（噴嘴頻率會影響霧滴大?。?，可分布微霧量，從而保證成分和結構的均勻性和所得薄膜和圖案的準確性。材料浪費保持在低限度，設備操作人員的風險很小。超聲波霧化模塊的工作原理是利用超聲波換能器將高頻聲波轉化為機械能，再轉
2022
05-13

磁控濺射的種類有幾種
電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大
2022
05-13

直流等離子磁控濺射鍍膜儀使用須知
直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一種小型直流（DC）等離子磁控濺射鍍膜系統，該系統包括所有必需的附件，如500W（600V）直流電源、2英寸磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。主要由濺射真空室、磁控濺射靶材、樣品臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機和真空測量裝置組成。高真空濺射可用于制備金屬、半導體、絕緣體等薄膜材料。具有設備簡單、易控制、涂布面積大、附著力強等優點，可用于大專院校和科研院所的薄膜材料的研究和制備。直流等離子磁控濺射鍍膜儀濺射鍍膜的原理是異常輝光放電中的稀有氣體產生的等離子體在電場作

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