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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 化學氣相沉積 (PECVD) 設備

    PD-2201LC 是一種盒式裝載等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 設備,能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。該系統在節省空間的提下提...
    型號: PD-2201LC 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:16:09 對比
  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號: ULHITETM ... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:14:02 對比
  • 等離子增強化學氣相沉積PECVD

    設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能,如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下,生產均勻性好且沉積速率高的薄膜。PlasmaPro 100 ...
    型號: PlasmaPro... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:10:40 對比
  • 高真空電子束蒸發薄膜沉積系統

    高真空電子束蒸發薄膜沉積系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部...
    型號: EB900 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:10:28 對比
  • 原子層沉積ALD

    Kurt J. Lesker Company (KJLC) ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 (ALD) 系統,專為入門級到中級用戶而...
    型號: ALD-150LE... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:09:18 對比
  • 程控伺服勻膠機

    AC200-S-PP勻膠機,伺服驅動,PLC控制,7寸觸屏,真空可調,支持加熱,工業級應用,處理基片能力強。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機的核心特性與...
    型號: AC200-S-P... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:05:48 對比
  • 離子束沉積設備

    光掩模制造需要高水平的顆粒控制,同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自 1990 年代以來,...
    型號: NEXUS IBD... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:02:06 對比
  • NLD干法刻蝕設備

    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570,是搭載了愛發科磁性中性線(NLD- neutral loop discha...
    型號: NLD-570 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:59:57 對比
  • 干法刻蝕設備

    干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX對應LED量產用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號: APIOS NE-... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:58:14 對比
  • 干法刻蝕裝置

    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(NLD- neutral l...
    型號: NLD-5700 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:54:46 對比
  • 投影掃描光刻機

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐DSC300投影掃描光刻機。這種專有的掃描光刻平臺擁有三位數的產能,并達到解析度( 2 μm)的分辨...
    型號: DSC300 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:53:56 對比
  • 程控伺服勻膠機

    AC200-SE程控伺服勻膠機,高精度伺服驅動,PLC智能控制,7寸觸屏操作,耐溶劑材質,適用于多種工業應用。
    型號: AC200-SE標... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:49:13 對比
  • 電子束光刻機

    ELS-HAYATE是由ELIONIX研發的超高吞吐量電子束光刻機,提供業界大的 5 毫米偏轉。非常適合需要關注字段間拼接錯誤的應用。
    型號: ELS-HAYAT... 所在地:日本 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:46:19 對比
  • 小巧型勻膠機

    EZ4-S-PP小巧型勻膠機,小巧耐腐蝕,適用于手套箱內,液晶顯示,程序可調,支持4寸底物,鋁合金/PP外殼可選。
    型號: EZ4-S 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:44:22 對比
  • 薄膜沉積PVD設備

    Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標準尺寸(PVD 200 和 PVD 500)組成,可配置為水平或垂直配置。...
    型號: PVD-BATCH... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:44:10 對比
  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN Σ這是ELONIX自創業以來多年來一直致力于開發的新型號的電子束光刻機。 采用模塊系統,可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構和防振臺,為...
    型號: ELS-BODEN... 所在地:日本 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:42:57 對比
  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN是由ELIONIX開發的電子束光刻機,非常適合研究和開發!支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應用。
    型號: ELS-BODEN 所在地:日本 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:39:08 對比
  • 多片式MOCVD系統

    Satur系列 多片式MOCVD系統,優異的均勻性、一致性、穩定性控制,MOCVD 即金屬有機物化學氣相沉積,是一種用于生長化合物半導體薄膜的技術。它通過將Ⅲ族...
    型號: Satur系列 所在地:北京市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:32:47 對比
  • 紫外臭氧清洗機

    這款紫外臭氧清洗機,集成嵌入式控制系統,人性化設計,便捷高效,質量有保障,專業服務,是科研與實驗的理想伙伴。
    型號: UC100-SE 所在地:南京市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:32:08 對比
  • 多功能刻蝕機

    GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設計,保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源,刻蝕速率高、均勻性好、顆粒控制能力強、易維護、性能穩定...
    型號: GSE C200 所在地:北京市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 9:28:16 對比

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