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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 有機薄膜沉積和金屬化系統

    Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一...
    型號： SPECTROS&... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:57:23 對比

  • 12寸噴霧式涂膠機

    KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣，避免溝槽堆積...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:55:36 對比

  • 化學氣相沉積 (PECVD) 系統

    PD-220NL 是一種負載鎖定等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 系統，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統以非常緊湊的占地面積...
    型號： PD-220NL 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:55:35 對比

  • 有機薄膜沉積和金屬化系統

    概述針對有機材料沉積進行了優化多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達 4 個熱蒸發源基板快門自動基板、掩...
    型號： Super-SPE... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:53:08 對比

  • 激光光刻機.

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速、靈活的高分辨率圖形發生器。它們針對工業級灰度光刻進行了優化，設計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:52:19 對比

  • 高溫型烤膠機

    HP100-HT-CTM高溫型烤膠機，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨立電路，隔熱設計，安全耐用，高溫均勻，適合精密實驗。
    型號： HP100-HT-... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:51:44 對比

  • Load-lock式濺射設備

    Load-lock式濺射設備是可對應從研究開發到小規模量產的濺射設備。這種設備通過在真空濺射室之前增加一個預真空鎖室（Load-lock chamber），實現...
    型號： CS-200 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:49:00 對比

  • 精密型烤膠機

    HP6精密型烤膠機，全鋁機身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
    型號： HP6 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:48:33 對比

  • 化學氣相沉積系統

    PD-3800L 化學氣相沉積系統是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統。該系統由于采用了大...
    型號： PD-3800L 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:43:16 對比

  • AP200/300 投影步進式光刻機

    AP200/300 系列光刻系統基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現高度自動化和具有成本...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:41:07 對比

  • 等離子增強化學氣相沉積PECVD

    PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強化學氣相沉積 （PECVD） 工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開放式裝載系統。可...
    型號： PlasmaPro... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:40:53 對比

  • 批次式濺射設備

    批次式濺射設備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設備。為可以處理大量基板的回轉型設備。
    型號： SV系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:40:43 對比

  • 濺射鍍膜設備（立式）

    濺射鍍膜設備SMD系列（立式）SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各...
    型號： SMD系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:36:22 對比

  • 12寸 集束型涂膠顯影機

    KS-C300涂膠顯影機可用于封裝、 MEMS、OLED等領域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
    型號： KS-C300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:34:55 對比

  • 刻蝕設備

    量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
    型號： NE-5700/N... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:32:07 對比

  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229m...
    型號： EDC-650-1... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:30:17 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機

    清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合，...
    型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:25:43 對比

  • 控溫型勻膠機

    控溫型勻膠機，性能優秀，專業服務，高品質材料，安全設計，桌面實驗理想選擇，為科學儀器領域的優選產品。
    型號： IC8000-S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:25:32 對比

  • 原子層沉積ALD

    Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統，專為高級研發 （R&D） 應用而設計。創...
    型號： ALD-150LX... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:19:33 對比

  • 單片清洗機

    用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:17:16 對比
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