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多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn) ...
型號(hào)： PRO Line ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:15:39 對(duì)比

物理氣相沉積 PRO Line PVD 200 KURT.J.LESKER
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備CMS系列極其強(qiáng)大的優(yōu)良研究工具設(shè)計(jì)用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用，如 GMR、CMS、半導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)和光伏系統(tǒng)設(shè)計(jì)可以配置為真正的超高真...
型號(hào)： CMS系列所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:45:39 對(duì)比

鍍膜 KURT.J.LESKER CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
磁控濺射鍍膜設(shè)備
Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設(shè)備專為磁控濺射沉積應(yīng)用而設(shè)計(jì)。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設(shè)計(jì)...
型號(hào)： LAB Line 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:41:33 對(duì)比

磁控濺射磁控濺射鍍膜設(shè)備 LAB Line KURT.J.LESKER
濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級(jí)沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適...
型號(hào)： NANO 36&t... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:12:06 對(duì)比

薄膜沉積 NANO 36™KURT.J.LESKER 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在...
型號(hào)： Mini SPEC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:06:45 對(duì)比

沉積和金屬化系統(tǒng)KURT.J.LESKER Mini SPECTROS
有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company 的有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺(tái)的下一...
型號(hào)： SPECTROS&... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:57:23 對(duì)比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER SPECTROS™ 150 有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
概述針對(duì)有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化多達(dá) 12 個(gè) LTE 信號(hào)源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達(dá) 4 個(gè)熱蒸發(fā)源基板快門自動(dòng)基板、掩...
型號(hào)： Super-SPE... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:53:08 對(duì)比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER Super-SPECTROS™ 200 有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級(jí)研發(fā) （R&D）應(yīng)用而設(shè)計(jì)。創(chuàng)...
型號(hào)： ALD-150LX... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:19:33 對(duì)比

原子層沉積ALD ALD-150LX™KURT.J.LESKER
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，專為入門級(jí)到中級(jí)用戶而...
型號(hào)： ALD-150LE... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:09:18 對(duì)比

ALD-150LE™原子層沉積ALD KURT.J.LESKER
薄膜沉積PVD設(shè)備
Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。...
型號(hào)： PVD-BATCH... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 9:44:10 對(duì)比

PVD-BATCH DRUM 薄膜沉積PVD設(shè)備 KURT.J.LESKER
自動(dòng)薄膜沉積簇工具
Kurt J. Lesker Company自動(dòng)薄膜沉積簇工具 OCTOS集群工具是經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的研發(fā)和中試生產(chǎn)系統(tǒng)，用于在多個(gè)工藝室之間進(jìn)行真空傳輸。®
型號(hào)： OCTOS&tra... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:52:50 對(duì)比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER 自動(dòng)薄膜沉積簇工具
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。P...
型號(hào)： PRO Line ... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/14 16:39:14 對(duì)比

PVD 濺射電子束熱蒸發(fā)沉積
熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級(jí)沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適合手套...
型號(hào)： NANO 36&t... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/14 15:30:30 對(duì)比

PVD 熱蒸發(fā)薄膜沉積

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