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深硅刻蝕機
深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現(xiàn)多工藝領域覆蓋。該機臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進...
型號： PSE V300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 21:53:24 對比

深硅刻蝕機 PSE V300
緊湊型刻蝕設備
RIE-1C是用于半導體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設備。可以高效、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程。可以放在桌面上，也可...
型號： RIE-1C 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:24:47 對比

緊湊型刻蝕機 RIE-1C SAMCO
RIE等離子刻蝕設備
RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
型號： RIE-300NR 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:19:00 對比

RIE等離子刻蝕設備 RIE-300NR SAMCO
反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝，兼容200mm以下所有尺寸的晶圓，快速更換到不同尺寸的晶圓工藝，電極的適用溫度范圍寬，-150°C至400...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:18:55 對比

離子刻蝕系統(tǒng)RIE 等離子刻蝕固體激光器 InP刻蝕石英刻蝕 OXFORD
RIE等離子刻蝕設備
RIE-200C RIE等離子刻蝕設備是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎上開發(fā)的量產型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly...
型號： RIE-200C 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:14:14 對比

RIE等離子刻蝕設備 RIE-200C SAMCO
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)配置與實際應用緊密協(xié)調，以...
型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:12:25 對比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 刻蝕設備 OXFORD
深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH
提供深硅蝕刻（DSiE）領域的MEMS，封裝和納米技術的廣泛應用，從光滑側壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實現(xiàn)。
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:05:06 對比

深硅刻蝕系統(tǒng)刻蝕設備刻蝕系統(tǒng)OXFORD
等離子體刻蝕設備
高密度等離子體刻蝕設備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復性和穩(wěn)定性。
型號： RIE-800iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:03:35 對比

等離子體（ICP）刻蝕設備 RIE-800iP SAMCO
RIE等離子刻蝕設備
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動RIE等離子刻蝕設備，它能滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友...
型號： RIE-10NR 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:55:21 對比

RIE等離子刻蝕設備 RIE-10NR SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設備
RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，等離子體（ICP）刻蝕設備高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風式線圈電...
型號： RIE-230iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:32:42 對比

等離子體（ICP）刻蝕設備 RIE-230iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設備
RIE-400iP是用于ø4 “晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，等離子體（ICP）刻蝕設備可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風線圈的電...
型號： RIE-400iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:30:06 對比

等離子體（ICP）刻蝕設備 RIE-400iP SAMCO
等離子體刻蝕設備
高密度等離子體刻蝕設備系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復性和穩(wěn)定性。
型號： RIE-800iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:25:32 對比

等離子體（ICP）刻蝕設備 SAMCO RIE-800iPC
深硅刻蝕設備
RIE-802BCT深硅刻蝕設備是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個反應室的量產用硅深孔系統(tǒng)。標準配置有空氣盒和晶圓邊緣保護環(huán)，以及高精度的晶圓對準器。該高...
型號： RIE-802BC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:09:17 對比

深硅刻蝕設備 RIE-802BCT SAMCO
深硅刻蝕設備
RIE-800BCT是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產型硅DRIE系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進行高縱橫比處理（超過100）和低扇形處理，同時保持高蝕刻率和選...
型號： RIE-800BC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:01:59 對比

深硅刻蝕設備 RIE-800BCT SAMCO
電感耦合等離子體刻蝕設備
Samco 的 RIE-800iPB 是一種電感耦合等離子體刻蝕設備，使用高密度等離子體進行 MEMS 和 TSV 應用所需的深度硅蝕刻。RIE-800iPB是...
型號： RIE-800iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 13:57:32 對比

深硅刻蝕設備 RIE-800iPB SAMCO
刻蝕設備
量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
型號： NE-5700/N... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:32:07 對比

NE-5700/NE-7800 刻蝕設備
高密度等離子刻蝕裝置
高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
型號： ULHITETM ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:14:02 對比

ULHITETM NE-7800H 高密度等離子刻蝕裝置
NLD干法刻蝕設備
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
型號： NLD-570 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:59:57 對比

NLD干法刻蝕設備 NLD-570
干法刻蝕設備
干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX對應LED量產用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現(xiàn)了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源...
型號： APIOS NE-... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:58:14 對比

干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
干法刻蝕裝置
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
型號： NLD-5700 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:54:46 對比

干法刻蝕裝置 NLD-5700

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