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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 多功能刻蝕機

    GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設計，保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源，刻蝕速率高、均勻性好、顆粒控制能力強、易維護、性能穩定...
    型號： GSE C200 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:28:16 對比

  • 離子束刻蝕機

    EIS-200ERP是由ELIONIX研發的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積，制品特微。
    型號： EIS-200ER... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 21:26:34 對比

  • 離子束刻蝕機

    EIS-1500是由ELIONIX研發的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內分布監控功能，可以實現各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機。
    型號： EIS-1500 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 21:22:03 對比

  • 12英寸金屬刻蝕機

    NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
    型號： NMC 612G 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:18:00 對比

  • 高密度 刻蝕機

    GDE C200系列 高密度 刻蝕機，等離子體源和頻率設計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
    型號： GDE C200系... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

  • 單晶圓刻蝕系統

    憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。PlasmaPro 100 Polaris單...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:33:24 對比

  • 電感耦合等離子體刻蝕

    PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統利用高密度電感耦合等離子體實現快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:11:50 對比

  • 單片濕法刻蝕機

    滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
    型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:50:24 對比

  • 芯片刻蝕機

    ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機，優良的等離子體發生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
    型號： ELEDE... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:26:03 對比

  • 多腔等離子體刻蝕系統

    多腔等離子體刻蝕系統-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統2.系統可用于研發和小批量生產3.系統兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:56:26 對比

  • CCP介質刻蝕機

    NMC 508系列 CCP介質刻蝕機，多頻解耦設計，實現優異的均勻性及高深寬比介質刻蝕。
    型號： NMC 508系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:13:55 對比

  • 等離子刻蝕集群系統

    SENTECH 集群系統包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內的轉移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站...
    型號： SENTECH 集... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:04:54 對比

  • ICP 刻蝕機

    NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效...
    型號： NMC 508系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:58:11 對比

  • AL實時監控器

    SENTECH AL 實時監測器是一種經過驗證的光學診斷工具，可實現單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長...
    型號： SENTECH A... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:53:27 對比

  • RIE等離子刻蝕系統

    SENTECH SI 500 CCP 系統使用動態溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設置和穩定性是高質量蝕刻的嚴格標準...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:35:38 對比

  • 等離子刻蝕系統RIE

    SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統具有負載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:31:13 對比

  • RIE等離子蝕刻系統

    SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統，結合了RIE平行板電極設計的優點和直接負載的成本效益設計。
    型號： SENTECH E... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:16:02 對比

  • 深硅刻蝕設備

    RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發目的而改裝的。該系統由R...
    型號： RIE-400iP... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:12:01 對比

  • 等離子體（ICP）刻蝕設備

    RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設備，可處理多達ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統為各種蝕刻應用提供了堅固...
    型號： RIE-350iP... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:03:21 對比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:00:11 對比
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