化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>干法工藝設(shè)備>等離子體刻蝕設(shè)備>Wintech CCP-200 微蕓電容耦合等離子體刻蝕機(jī)
Wintech CCP-200 微蕓電容耦合等離子體刻蝕機(jī)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 上海微蕓半導(dǎo)體科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Wintech CCP-200
- 產(chǎn)地 上海市浦東新區(qū)王橋路689號(hào)1幢
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/29 15:37:55
- 訪問(wèn)次數(shù) 184
產(chǎn)品標(biāo)簽
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ICP干法刻蝕機(jī)，CCP干法刻蝕機(jī)，400平臺(tái)刻蝕系統(tǒng)，600平臺(tái)刻蝕系統(tǒng)，Manual Load系統(tǒng)
上海微蕓半導(dǎo)體科技有限公司生產(chǎn)的電感耦合等離子體干法刻蝕機(jī)（ICP）是一款針對(duì)工藝節(jié)點(diǎn)與生產(chǎn)線各種關(guān)鍵應(yīng)用的大規(guī)模量產(chǎn)型設(shè)備，其性能亦可在各大高校及科研機(jī)構(gòu)展示其科研屬性。
設(shè)備8英寸向下兼容，適用于各種刻蝕需求，具備優(yōu)異的刻蝕均勻性和快速刻蝕速率，確保了高效、精確的刻蝕工藝結(jié)果。同時(shí)，高選擇比和高各向異性使刻蝕過(guò)程更為精準(zhǔn)，減少損傷。專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定、重復(fù)性、均勻性佳。此外，高斷面輪廓可控性保證了刻蝕表面的平整光滑。該系統(tǒng)可以根據(jù)客戶要求選擇氣體種類進(jìn)行配置。
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