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光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
自動(dòng)顯影機(jī)
臺(tái)式 無掩膜光刻系統(tǒng)
桌面型 激光直寫系統(tǒng)
直寫光刻機(jī)
直寫光刻機(jī)/無掩膜光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機(jī)
日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
國產(chǎn)光刻機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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