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電子束蒸鍍設備

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公司介紹 主營產品

北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊，專精的服務，提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理，為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向，用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流，打消顧慮，彼此協作，為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備，其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念，以人為本的企業文化，我們始終為用戶提供專業的服務！

合作丨共贏，選擇我們，選擇未來！

展開

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域	環保,化工,電子/電池

電子束蒸鍍設備介紹

SYSKEY的電子束沉積是一種實用且高度可靠的系統。我們的系統可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

電子束蒸鍍設備應用領域	腔體
光學材料研究(LED/Laser Diode)。光電元件。半導體元件。	由304不銹鋼所製成，通過外部焊接304不銹鋼管線對腔體進行水冷。寬大的前開式門，並有兩個視窗和視窗遮版用於觀察基材和電子束源。腔體的極限真空度約為10-8 Torr。
配置和優點	選件
客製化的基板尺寸，最大直徑可達12寸晶圓。單載片或多載片（2” x 32個，4” x 16個，6” x 6個，8” x 4個）。優異的薄膜均勻度小於±3％。具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源（1/2/4/6坩堝）。自動鍍膜系統。具有順序操作或共沉積的多個電子束源。基板具有冷卻（液態氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度最高800°C）等功能。	可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發源、等離子清潔...。