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NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 那諾中國(guó)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/4/28 9:13:50
  • 訪問(wèn)次數(shù) 4734

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那諾中國(guó)有限公司專(zhuān)注于為大中華區(qū)域(包括中國(guó)大陸、香港、澳門(mén)和中國(guó)臺(tái)灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性?xún)r(jià)比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測(cè)儀器。


那諾中國(guó)提供美國(guó)那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等)。


那諾中國(guó)提供英國(guó)KORE基于飛行時(shí)間的質(zhì)譜儀,包含飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)

產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備概述:原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù),具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性,可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備特點(diǎn):NLD-3500(A)是一款全自動(dòng)獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng),帶Labview軟件,具備四級(jí)密碼控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì),并提供了強(qiáng)大的靈活性,可以用于沉積多種薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-3500(A)系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體,帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋,非常方便腔體的訪問(wèn)和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸,用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物,同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-3500(A)選配:NLD-3500(A)系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含,ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD),臭氧發(fā)生器,等等。

NLD-3500(A)應(yīng)用:

  • Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etc
  • Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
  • Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應(yīng)用.
  • Nano laminates納米復(fù)合材料


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