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淋浴頭氣流的平面ICP離子源應用于ALD系統

來源:那諾中國有限公司   2017年09月14日 09:48  

繼NANO-MASTER*技術的帶淋浴頭氣流分布的平面ICP離子源應用于NANO-MASTER的刻蝕系統,ICPECVD沉積系統,PA-MOCVD生長系統之后,該ICP離子源順利應用于ALD系統。

由于該型技術設計的ICP源為平面設計的遠程等離子源,可以在更低電源下達到更高的離子密度,具有電子溫度低、離子密度高、腔體空間占比低等優勢,確保了該ALD系統具有薄膜無損傷、生長速度快、脈沖周期短(沉積效率可以達到兩倍以上)的先進性能。此外,可以實現低溫(100度以內)的薄膜生長。

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