GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀自動化程序控制，一鍵式操作，讓鍍膜更加高效。該設備采用觸摸控制，外置泵組設計，采用平面磁控濺射靶設計，從而使試樣在熱效應最小的條件下得到有效的濺射效果，常用于鋰電池電極防氧化研究中。
一、技術參數
1、工作原理：磁控濺射
2、輸入電壓：AC220V±10%，50Hz
3、最大功率（主機與機械泵）：500W
4、工作電壓：DC2400V
5、存儲環境：溫度-10~60℃，濕度<80%
6、工作環境：溫度 5～40℃，濕度<60%
7、真空泵：兩級直聯旋片式真空泵 1L/s
8、整機尺寸（長×寬×高）：424×271×255（mm）
9、重量（主機）：11 kg
10、真空腔：φ128×130mm
11、樣品杯：φ90×1 / φ25×4 / φ15×6
12、工作氣體：Air / Ar
13、保護功能：過流、真空雙保護
14、可選靶材：金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬
二、手套箱專用磁控濺射儀(手套箱專用離子濺射儀)主要特點
1、可用于純氬、純氮環境，使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染；
2、助力新型電池研究；
3、提供全套解決方案及交鑰匙服務。
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