GVC-2000P磁控離子濺射儀產品特點：
1、一鍵操作，具備工作完成提示音。
2、鍍膜顆粒小，無熱損傷。
3、靶材更換非常簡單。
4、特殊密封結構，玻璃不易損壞。
5、內置操作向導，無需培訓即可熟練操作。

金顆粒尺寸（硅片噴金）                       電池隔膜10萬倍（噴鉑）

GVC-2000P磁控離子濺射儀技術方案

1. 采用平面磁控濺射靶頭進行靶材濺射，以確保工作過程樣品不會發生熱損傷。

2. 采用ARM作為處理器，全自主知識產權，擴展性好，可選配：

a) 膜厚監控組件：可預設期望鍍膜厚度，在工作過程中精確控制鍍膜厚度；

b) 樣品臺加熱組件：可通過加熱提高膜層的致密性以及與基地的結合力。

3. 7英寸觸摸式液晶顯示屏，分辨率為800×480，全數字顯示；

3.1 可設定：（1）濺射電流；（2）濺射時間；（3）靶材種類；（4）工作真空度；（5）工作氣體；（6）屏幕亮度等參數；

3.2 可顯示：（1）濺射電流；（2）濺射剩余時間；（3）工作真空度；（4）靶材累計使用時間；（5）設備累計使用時間等參數。

4. 濺射電流：2-100mA連續可調，最小步長為1mA；

5. 濺射時長：1-999s連續可調，最小步長為1s；

6. 濺射真空：4-20Pa連續可調，最小步長為0.1Pa；

7. 濺射靶材：標配為高純鉑靶（純度4N9），規格為φ57×0.12mm；也可使用金、銀、銅、金鈀合金等金屬作為濺射靶材；

8. 真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸約為φ200×130mm；

9. 樣品臺：可自轉的不銹鋼樣品臺，直徑為φ125mm，轉速4-20rpm可調；

10. 靶材參數：系統提供金、鉑、銀、銅對于空氣和氬氣的工作參數，可直接使用。同時提供4種自定義靶材，用戶可根據自己需求設定工作參數；

11. 預濺射：具有全自動控制的預濺射擋板，確保工作過程穩定可靠；

12. 一鍵操作：系統可自動完成抽氣、充氣、參數調整、預濺射、濺射鍍膜等工作過程；濺射完成后，關閉真空泵，系統自動充氣使真空室內外壓力平衡；

13. 具備濺射電流和真空度雙重互鎖，安全可靠，任一條件觸發，系統即可停止工作，防止因為誤操作導致設備損壞；

14. 系統采用皮拉尼真空規作為真空測量元件；

15. 極限真空優于1Pa，真空泵抽速為1.1L/s；

16. 具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能非常方便用戶了解系統工作狀態；

17. 采用專業的靶材更換結構，無需任何工具，即可實現快速更換靶材；

18. 儀器供電：AC220±10%V，額定功率500W。