GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動化技術鍍膜機給予市面上最好使用價值的商品。它被用于非導電性樣品的預備處理商品，以提升三維成像屏幕分辨率，樣品導電率，電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。
1、全自動知識產品；
2、沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細，更適合高分辨電鏡。
二、基本原理
將導電性原材料（如Pt-Pd，Pt，Au和Pd）涂敷到樣品表面上的設備。除此之外，非導電性樣品用以在透射電鏡下開展數據可視化，及其維護樣品表面免遭引入離子束的危害并幫助電子器件流動性。他們乃至可以作為塑料薄膜型電級的產生。
三、應用領域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實際放大倍數≥100K）；
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。
四、設備配置與技術參數
| 型號&名稱 | GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀 |
| 真空系統 | 渦輪分子泵（進口 ）：德國萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s） 旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s） |
| 真空測量 | 全量程復合真空規（進口）：1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系統極限真空 | ≤5E-3Pa |
| 濺射電源 | 磁控濺射電源,功率150W |
| 可用靶材 | 所有金屬靶材，ITO靶材 |
| 濺射電壓 | 300-600V,根據選擇靶材、控制參數不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續可調,步長5mA |
| 濺射時間 | 0-9999s, 連續可調步長1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
| 操作方式 | 一鍵操作 |
| 抽氣節拍 | ＜15分鐘 |
| 控制方式 | 只需設定濺射電流和時間即可，全自動控制 具備預濺射擋板（預濺射時間可設定),全自動控制 |
| 保護功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護等 |
| 樣品臺直徑 | φ125mm，可自轉，可自動手動控制，轉速4-40rpm可調 |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，規格尺寸約φ200×130mm |
| 電源供電 | 220V 50Hz 功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 424（長) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重) |
| 冷卻方式 | 內部風冷 |
| 選配 | 樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監測等 |
鍍膜樣品示例：
靶材-銀 靶材-鎢 靶材-鉻
靶材-鎳 靶材-釩 靶材-錫
靶材-銅 靶材-鉭 靶材-貼
靶材-鈦 靶材-鉛 靶材-鉬
靶材-鋁 靶材-鉑 靶材-金
靶材-鋯 靶材-鉺 靶材-ITO
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北京格微儀器有限公司
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