在高真空環境中,我們發明了一種創新的In-line Sputter生產技術,實現了高大量生產率和出色的品質。這款1Carrier/20Sheet(A4 Size)產品采用了Both Side Sputtering工藝,不僅提高了生產效率,還確保了優異的光學性能,透過率可達25%以上。
通過精密儀器的安裝和優質設備的使用,我們確保了制造過程的穩定性和一致性。同時,我們采用了自主研發的優質材料,相比市面上的同類產品,大幅降低了成本,從而提升了產品的性價比。
我們專注于工藝的優化和完善,致力于提高In-Line Sputter工藝的產品品質。通過對電弧放電等關鍵參數的精準控制,我們能夠確保產品的可靠性和一致性,同時大幅縮短了維修時間,降低了后期維護成本。
這一系列的技術創新和工藝優化,使我們的In-line Sputter產品在高真空環境下實現了高大量生產率和品質表現,為客戶提供了優質高效的解決方案。我們將繼續投入研發,不斷推動技術進步,為客戶創造更大價值。
| Chamber & Door | 5 chambers, STS(SUS)304 |
| Pumping System | PRP + MBP + DRY + TMP / DP |
| Cooling Devices | * Cryo Cooled Polycold Unit * Cooling Traps for Pumping Unit * Cooling Chiller for Cathode |
| Power Supply | DC Power Generator |
| Control Unit | PLC, Touch Screen |
| Cycle Time | 270sec / carrier (根據產品可能有所不同) |
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