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MIKASA米卡薩蝕刻裝置
MIKASA米卡薩蝕刻裝置日本MIKASA米卡薩株式會社 日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機,真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗怖機,真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機,真空泵 半導體制造工序中的Mikasa半導體設備
晶園、洗滌**晶園表面的臟污及
各種金屬離子、成膜
在高溫擴散爐中,形成、表面氧化膜
電路圖案設計、運用CAD制作布局、布線
設計圖。制作光掩膜
將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)
光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶
圓表面,形成厚度均一的薄膜。
旋轉涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合,復制電路
圖案。
光刻機(P13~P15)
MIKASA米卡薩旋轉涂布機可選組件
顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
顯影裝置(P17. 18)、蝕刻
通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。
蝕刻裝置(P19)
離子注入/濺射
向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密閉型)
●MS-B300 (密閉型)
日本MIKASA光刻機
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光,將光掩膜與晶園重合,復制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉涂布機MS-A150/MS-B150現貨現貨旋轉涂膜儀
去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置
●ED-1200
●ED-3000
日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后,提供一站式服務。另外,為旋轉涂膜儀的所有機型準備了替代用機,可在發生故障時盡早應對,且在銷售后提供快捷周到的售后服務。針對研究過程中所發生的一系列問題,也可在現場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現了問題、應如何改進等等,從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設備,而是為客戶半導體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面,形成厚度均一的薄膜。
日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后,晶圓涂抹提供一站式服務。
日本Mikasa 半導體用設備 旋涂機
MS-B100
MS-B150
MS-B200
MS-B300
MS-B200
密閉型MS-B300
密閉型MA-20
MA-10B
MA-60F
M-2LF
M-1S
AD-1200
AD-3000
ED-1200
各類日系工業品:,SSD西西蒂(離子風扇)、AND愛安得(電子天平)、SAN-EI三英(點膠閥) HOYA光源,KURABO脫泡機,USHIO牛尾照度計,Tsubosaka壺坂電機,IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機,lambda拉姆達膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚(膜厚儀、粒度儀),Hitachi日立(掃描電鏡),MIKASA米卡薩(旋涂設備、顯影)、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克(檢查光源)、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子(光學膜厚儀)、KOSAKA小坂(臺階儀)、HORIBA堀場儀器(分析儀)、SIBATA柴田科學(環境測定)、TORAY東麗濃度儀(氧氣分析儀)、yamada山田鹵素強光燈、CEDAR思達。