MS-B200 (密閉型) MIKASA米卡薩旋轉均膠機半導體
| 參考價 | ￥ 90000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 美薩科技（蘇州）有限公司
- 品牌 MIKASA/米卡薩
- 型號 MS-B200 (密閉型)
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2025/7/16 17:48:31
- 訪問次數 26
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| 產地類別 | 進口 |
|---|
MIKASA米卡薩旋轉涂布機 MS-B150
MIKASA米卡薩旋轉涂布機 MS-B150
日本MIKASA米卡薩株式會社 日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機，真空泵 半導體制造工序中的Mikasa半導體設備
晶園、洗滌**晶園表面的臟污及
各種金屬離子、成膜
在高溫擴散爐中，形成、表面氧化膜
電路圖案設計、運用CAD制作布局、布線
設計圖。制作光掩膜
將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)
光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶
圓表面，形成厚度均一的薄膜。
旋轉涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復制電路
圖案。
光刻機(P13~P15)
MIKASA米卡薩旋轉涂布機可選組件
顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
顯影裝置(P17. 18)、蝕刻
通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。
蝕刻裝置(P19)
離子注入/濺射
向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密閉型)
●MS-B300 (密閉型)
日本MIKASA光刻機
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉涂布機MS-A150/MS-B150現貨現貨旋轉涂膜儀
去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置
●ED-1200
●ED-3000
日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務。另外，為旋轉涂膜儀的所有機型準備了替代用機，可在發生故障時盡早應對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務。針對研究過程中所發生的一系列問題，也可在現場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現了問題、應如何改進等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設備，而是為客戶半導體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。
日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務。
日本Mikasa 半導體用設備 旋涂機
MS-B100
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密閉型MS-B300
密閉型MA-20
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M-1S
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AD-3000
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