科研版-Academic 無掩模光刻機(jī)產(chǎn)品亮點(diǎn)：

高靈活性、高精度、無掩模的優(yōu)勢(shì)，適用于科學(xué)研究

6 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達(dá)0 . 4  μm

步進(jìn)式光刻/掃描式光刻

科研版-Academic 無掩模光刻機(jī)產(chǎn)品應(yīng)用：

托托科技無掩模光刻機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域概覽

一、二維材料

托托科技自主研發(fā)的“指引光”與“直接繪圖”功能，能夠在二維材料上直接、靈活、高效地繪制電極圖案，為相關(guān)研究與應(yīng)用提供強(qiáng)大支持。

二、微流控

無掩模光刻機(jī)在微流控芯片制造中展現(xiàn)高精度與高靈活性，尤其適用于制作高深寬比（10:1）結(jié)構(gòu)，廣泛應(yīng)用于單細(xì)胞分析、傳感器等前沿領(lǐng)域。

三、MEMS

無掩模光刻技術(shù)是MEMS領(lǐng)域的得力助手，能夠高精度制造微米級(jí)圖案，并通過多層套刻實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精細(xì)加工。

四、微透鏡

利用灰度光刻技術(shù)，可精確控制表面形貌，生成如光柵、菲涅爾透鏡、微透鏡等復(fù)雜的衍射結(jié)構(gòu)，為微光學(xué)領(lǐng)域帶來創(chuàng)新可能。

五、光學(xué)衍射器件

灰度光刻在光學(xué)調(diào)制器件中發(fā)揮重要作用，通過精確控制光刻強(qiáng)度，制造高度精細(xì)的光學(xué)微結(jié)構(gòu)，優(yōu)化光波的調(diào)制與傳輸特性。

六、浮雕結(jié)構(gòu)

在防偽浮雕結(jié)構(gòu)領(lǐng)域，灰度光刻技術(shù)通過精細(xì)調(diào)控光照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)高精度的三維微結(jié)構(gòu)制造，顯著增強(qiáng)防偽標(biāo)識(shí)的復(fù)雜性和難以復(fù)制性。

七、超表面

光刻工藝在超表面方向的應(yīng)用，通過精確加工微納米級(jí)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)光波的精細(xì)操控和特定波長(zhǎng)、極化等光學(xué)性質(zhì)的調(diào)制，開辟新的光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域。

八、量子光學(xué)

在量子光學(xué)光波導(dǎo)方向，光刻工藝通過精密刻蝕微納尺度的光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)量子態(tài)的高效傳輸和操控，推動(dòng)量子信息處理與傳輸技術(shù)的進(jìn)步。

九、掩模版制造

高速（可達(dá)1200 mm2/min）的無掩模光刻機(jī)適用于小批量、定制化掩模版制備，有效減少對(duì)外部依賴，縮短設(shè)計(jì)迭代周期，提升制造效率與靈活性。

以上各領(lǐng)域應(yīng)用，均彰顯了托托科技無掩模光刻機(jī)的性能和廣泛適用性，為相關(guān)行業(yè)的發(fā)展提供了有力工具。