在微電子、集成電路等制造領域，靈活性、高效率是推動行業發展的重要動力。托托科技推出的高速版無掩模光刻機，憑借革命性的技術革新，為科學研究、定制化生產、快速原型制造，以及電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等眾多領域帶來了全新的解決方案。

托托科技無掩模光刻機融合了激光直寫光刻技術與 DMD 無掩模光刻技術。激光直寫技術通過激光束直接在材料表面進行高精度加工，而 DMD 無掩模技術則通過數字微鏡陣列投影光束進行圖案化加工，特別適用于大面積光刻，為不同場景下的加工需求提供了多樣化的選擇。

DMD 無掩模光刻技術是托托科技無掩模光刻機的核心技術之一。其基本原理是利用數字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，通過投影系統在材料表面快速形成圖像或光刻圖案。這些微鏡根據電信號的控制會精確調節反射角度，將激光或光源投射到特定位置。系統由光源模組、勻光模組、DMD 模組、投影模組、運動臺模組和軟件等幾大部分構成，這些模組高效、精準地協同工作，實現了高分辨率圖案的快速無掩模光刻。工作流程簡單高效，上位機發送圖形數據到 DMD 模組，DMD 顯示對應的圖形，經由 DMD 反射的光攜帶著圖形信息，經過一系列光學元件后照射到基片上，實現了圖形的轉移。高精度運動平臺的協同工作，確保不同曝光區域的精準拼接，最終實現大型、復雜圖案的動態曝光。

托托科技無掩模光刻機擁有多項核心功能，與傳統的有掩模光刻相比，無掩模光刻機更加靈活便捷，省去了制版的時間和金錢成本，幫助用戶快速驗證想法，大大縮短了研發周期。

在加工精度方面，托托科技無掩模光刻機表現出色。加工精度 1μm 可以滿足大多數加工需求，而針對精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達 400 nm 的產品供您選擇，能夠滿足各種高精度加工場景。

速度是另一個關鍵指標。托托科技無掩模光刻機的速度高達 1200 mm2/min，對于大尺寸樣品的加工來說，效率變得尤為重要，我們為您提供了高速高精度的設備來滿足您的需求，顯著提高了生產效率。

加工幅面方面，如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達 4 m2 的產品來滿足您的需求，能夠應對各種大規模加工任務。

此外，托托科技無掩模光刻機還具備灰度光刻能力，可達 4096 階。4096 階的灰度能力，能夠精準地在光刻材料上構建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結構或圖案，為微納制造領域帶來工藝精度與豐富的設計可能性，為科研創新和產品研發提供了更廣闊的空間。

托托科技高速版無掩模光刻機以其豐富的功能，成為微納制造領域的理想之選。無論是科研機構還是生產企業，都能從中受益，開啟微納制造的新篇章。