光刻機，亦稱為掩膜對準曝光機，是半導體芯片生產過程中至關重要的設備，主要負責將設計好的電路圖案精確地轉移到硅晶圓上。其在集成電路的生產中扮演著不可替代的角色，確保了集成電路的微小化、精確化和高效化。

光刻機的分類主要基于其曝光方式，大致可分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機。其中，直寫式光刻機根據是否使用掩膜版，又可進一步劃分為有掩膜直寫光刻機和無掩膜直寫光刻機。

無掩膜光刻機，作為一種創新的曝光技術，其特點在于摒棄了傳統掩膜版的使用。這種光刻機通過直接在硅晶圓上進行曝光，實現了圖案的直接轉移，大大提高了生產效率和靈活性。無掩膜光刻機的優勢在于：

1. 無需掩膜版，節省了掩膜制作成本和時間；

2. 高度靈活，便于快速更換設計和產品；

3. 能夠滿足2D光刻需求，同時實現2.5D光刻，即灰度光刻，適用于更復雜的光刻工藝。

由于其優勢，無掩膜光刻機在多個領域得到了廣泛應用。在科學研究領域，它為研究者提供了便捷的實驗平臺；在定制化生產方面，它能夠快速響應市場需求，生產特定產品；在快速原型制造領域，無掩膜光刻機大大縮短了產品研發周期。此外，在電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等高精尖領域，無掩膜光刻機也發揮著重要作用，為我國半導體產業的發展提供了有力支持。

高精度步進光刻科研版無掩膜光刻機ACA Pro產品亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

高精度步進光刻科研版無掩膜光刻機ACA Pro應用案例