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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備>GNP CLEANER-412R CMP后清洗機

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GNP CLEANER-412R CMP后清洗機

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半導體濕法清洗

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 基本參數

適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:輸入噴淋清洗,兩個雙面刷清洗和旋轉漂洗干燥(可選:分離QDR)

清洗機尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內徑)170()毫米

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4ohDIW

刷頭型式:PVA刷頭,可同時清洗晶圓片的正反面

刷位調節:手動控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

轉速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過毛刷

可用化學品:2個化學品[NH4OH]

化學和DI流量:<滿量程的±5%

轉站

選項:超高速掃描

旋轉速度:最高2500/DI漂洗/ N2

控制工藝流程:手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC式。





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