瑞士電鏡制樣設備磁控離子濺射鍍膜儀

緊湊型、模塊化和智能化

CCU-010為一款結構緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發鍍碳設備，使用非常簡便。采用du特的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。

瑞士電鏡制樣設備磁控離子濺射鍍膜儀特點和優點
?高性能離子濺射
?du特的即插即用濺射模塊
?yi流的真空性能和快速抽真空
?結構緊湊、可靠且易于維修
?雙位置膜厚監控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
?主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間

巧妙的真空設計
CCU-010 LV精細真空鍍膜系統專為SEM和EDX的常規高質量濺射鍍膜和鍍碳而設計，CCU-010 LV_SP-010為磁控離子濺射鍍膜儀。模塊化的設計可將低真空單元很輕松地升級為高真空單元。特別選擇和設計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標準真空法蘭允許連接第三方設備。

濺射模塊 SP-010 & SP-011
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 LV鍍膜主體單元，即可使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能，連續噴涂時間長-非常適合需要較厚膜的應用；可選多種濺射靶材。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。對于極細顆粒尺寸鍍膜，推薦使用渦輪泵抽真空的CCU-010 HV鍍膜主體單元。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對那些比常規EM應用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應用時，推薦使用該濺射頭。

等離子刻蝕單元 ET-010
在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之后，可以對樣品進行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜前清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍膜后進行等離子刻蝕處理，從而對膜層表面進行改性。

RC-010手套箱應用的遠程控制軟件
◎基于window的遠程控制軟件
◎創建和調用配方
◎實時圖表，包含導出功能（Excel、png等）
◎自動連接到設備

可選多種樣品臺
CCU-010提供一個直徑不小于60mm的樣品臺，該樣品臺插入到高度可調且可傾斜的樣品臺支架上。可選其它專用的旋轉樣品臺、行星臺、載玻片樣品臺等。

CCU-010 LV系列鍍膜儀版本
除了CCU-010 LV磁控離子濺射鍍膜儀之外，還可以選擇：CCU-010 LV熱蒸發鍍碳儀；CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 LV手套箱專用鍍膜儀。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 觸摸屏操控，配方可編程，保證結果可重復；具有斷電時系統自動排氣功能，防止系統被前級泵油污染。