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鍍金鍍碳一體機（通常指用于材料表面處理的真空鍍膜設備，如離子濺射鍍膜儀或蒸發鍍膜儀）的操作需要嚴格遵循流程，以確保鍍層質量、設備安全及實驗可重復性。以下是通用操作指南，具體步驟需根據設備型號調整。
一、鍍金鍍碳一體機操作前準備
1.設備檢查
確認真空泵油位正常（機械泵油需覆蓋油窗2/3以上），擴散泵或分子泵無油污。
檢查水冷系統（如有）是否暢通，水管無堵塞或泄漏。
確認電源、氣路（氬氣、氮氣或氧氣）連接正常，氣壓符合要求。
2.樣品準備
清潔樣品表面：用乙醇、丙酮或超聲波清洗去除油污，干燥后放入樣品臺。
導電處理：非導電樣品（如樹脂、塑料）需噴鍍導電層（如先鍍碳再鍍金）或使用導電膠粘貼。
固定樣品：使用導電銀膠或夾具固定，確保樣品臺與靶材正對。
3.靶材與耗材確認
安裝金靶或碳棒（根據需求）：
金靶：檢查靶材純度，清理表面氧化層。
碳棒：確認碳繩或碳棒長度足夠，避免蒸發中途耗盡。
關閉腔室門，檢查密封圈無破損。
二、鍍金鍍碳一體機操作步驟（以真空蒸發鍍膜為例）
1.抽真空
機械泵預抽：打開機械泵，將腔室真空度抽至≤5Pa（約10分鐘）。
分子泵/擴散泵啟動：
當低真空達標后，啟動分子泵（需預熱10分鐘）或開啟擴散泵加熱。
2.鍍膜參數設置
鍍碳步驟（如需打底）：
開啟碳蒸發源電源，設置電流。
沉積時間：10-60秒。
鍍金步驟：
切換金靶電源，設置加速電壓。
電流控制：直流濺射電流，射頻模式功率。
時間控制：鍍金層厚度通常5-20nm，時間需通過標定速率計算。
3.鍍膜過程監控
速率校準：使用石英晶體測厚儀實時監測沉積速率，調整功率或時間。
氣體流量控制：
氬氣（Ar）用于濺射鍍金。
氮氣或氧氣可用于反應濺射，需按工藝要求調節。
4.結束鍍膜
關閉蒸發源或靶材電源，停止氣體供應。
維持真空狀態自然冷卻至室溫，避免熱應力導致鍍層脫落。
三、鍍金鍍碳一體機后處理與設備維護
1.樣品取出
破空先關閉高真空閥，緩慢充入惰性氣體（氬氣或氮氣）至常壓，避免空氣沖擊污染鍍層。
取出樣品后立即存放于干燥器中，防止吸潮氧化。
2.設備清潔
清理腔壁殘留的鍍料（如用無塵布擦拭金靶飛濺區域）。
定期更換真空泵油并清洗濾網。
3.記錄與存檔
記錄關鍵參數：真空度、電流、時間、靶材尺寸、樣品名稱等。
使用SEM或光學顯微鏡檢查鍍層均勻性，反饋優化參數。
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