目錄:深圳市錫成科學儀器有限公司>>輪廓/膜厚測量>>橢偏儀>> Nanofilm_EP4橢偏儀
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
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橢偏儀
超薄膜的實時可視化分析測試，實時觀察樣品微觀尺度上的結構。可以測量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數等參數。也可以對薄膜進行區(qū)域化(選區(qū))分析，獲得所選區(qū)域的成像分析圖。
橢偏儀產品特點
a 自動消光型橢偏分析技術和傳統的顯微鏡技術結合，可視化實時圖像橢偏分析，橫向(X/Y方向)分辨率優(yōu)于1μm。
a 實時橢偏對比度圖像，實時視頻圖像分析。樣品的所有微結構、缺陷、污染和動態(tài)變化過程都將一覽無余。
a 全畫幅聚焦技術解決了斜角入射導致的全畫幅聚焦問題，適用于動態(tài)原位分析測試，如自組裝單分子層的生長和移動、蛋白質相互作用和水面單分子層的漂移等。
a 光斑切割技術，真正實現超薄透明基底上薄膜的無背底反射橢偏測試。
基礎參數 | |
樣品對準 | 探測Z方向的位置和傾斜，傾轉軸探測精度：0.001°，Z向精度：1μm |
儀器對準 | 光學系統角度傾轉調整，獨立于樣品位置，傾轉軸探測精度：0.001° |
Z軸升降系統 | 行程范圍：>100mm，可重復性：lμm |
光源 | 低氙弧燈激光光源，噪聲低至0.1%，長壽命10000小時； 可選單波長激光光源或200-2000nm連續(xù)波長光源； 提供250-1700nm光柵單色器，中段波長精度＜1nm，帶寬5/6/12nm； 可選光斑切割照明模塊，實現透明基底薄膜的無背底反射干擾測量； |
光學成像系統 | 聚焦掃描系統，在變角度測量時(<80°)實現實時圖像，兼容所有物鏡，橫向分辨率＜1μm； 全畫幅聚焦圖像/實時視頻，橫向分辨率2μm，工作入射角：52°~57°； |
探測器 | 單色千兆網(GigE)CCD相機，波長：360nm-1000nm，1392×1040 px，12位，40幀/秒； 可選近紅外(NIR)探測相機和紫外線(UV)探測相機； 可選多相機匹配及切換系統； |
物鏡 | 2×-50×物鏡； UV/IR物鏡； |
自動轉角儀 | 入射角范圍：38°-90°，分辨率：0.001°，角精度：0.01°，轉動速度：-5°/秒 |
Z軸自動升降系統 | 行程：12cm，可重復性：1μm，分辨率0.5μm |
拓展附件 | 表面等離子共振（SPR）單元，固/液界面分析單元，光導液/液界面分析單元，微流控分析單元，溫度控制單元，電化學分析單元等 |
聯用技術 | AFM、石英晶體微天平、反射光譜儀、拉曼光譜儀、白光干涉儀等 |
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