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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐>RTP-150 真空快速退火爐/德國UniTemp

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RTP-150 真空快速退火爐/德國UniTemp

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上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發儀器及設備的供應商,所銷售的儀器設備廣泛用于高校、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設立分公司和辦事處,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結爐;  - 電子束蒸發鍍膜機,熱蒸發鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統,等離子增強原子層沉積設備;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統; - 光學膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統-PLD-納米壓印;-等離子清洗機、去膠機;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發機,化學沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業客戶:華為技術有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體, 蘇州稀晶半導體科技, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學, 汕頭大學, 南方醫科大學, 清華大學, 北京大學, 復旦大學, 西北工業大學, 南京醫科大學, 香港中文大學, 香港城市大學, 蘇州大學, 深圳職業技術學院, 南京大學合肥國家試驗室, 上海交通大學醫學院, 華南理工大學,華東師范大學,江南大學,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學, 深圳技術大學, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農業協同創新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導體設備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

  • 詳細介紹

  • RTP-100/150快速退火爐為德國優尼坦公司生產,分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個型號,分別對應4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火爐產品。

    技術規格:

    - 溫度:1200攝氏度;

    - 升溫速率:150攝氏度/秒;

    - 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);

    - 溫控均勻性:≤ 1.5%設定溫度;

    - 加熱方式:紅外鹵素燈,頂部及底部加熱;

    - 燈管數量及功率:18支/20千瓦(RTP-100),24支/21千瓦(RTP-150);

    - 腔體冷卻:水冷方式;

    - 襯底冷卻:氮氣吹掃;

    - 工藝氣路:MFC控制,最多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等);

    - 主機尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),約55Kg;

     

    儀器特點:

    - 真空快速退火爐,有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa);

    - 可在不同氣氛環境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;

    - 控制方式:SIMATIC, SPS人機界面控制,7英寸觸摸屏;

    - 可存儲50個程序,每個程序最多分為50段控制;

    - 全自動智能控制,包括溫度、時間、氣體流量、真空度、循環水均可自動設置;

    - 優異的溫控均勻性,佳的工藝重現性;

    - 小尺寸臺式設計;

    應用領域:

    - 離子注入/接觸退火;

    - 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);

    - 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用;

    - SiAu, SiAl, SiMo合金化;

    - 低介電材料;

    - 晶體化,致密化;

    - 太陽能電池片鍵合;

    等等...

    參考客戶:

    西安交通大學、西安電子科技大學、中國科技大學、江漢大學、中科院上海技術物理所、中科院蘇州納米所、北京航天儀器研究所、京東方、武漢光迅、能華微電子等。

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