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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐>AS-one 快速退火爐

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AS-one 快速退火爐

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上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發儀器及設備的供應商,所銷售的儀器設備廣泛用于高校、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設立分公司和辦事處,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結爐;  - 電子束蒸發鍍膜機,熱蒸發鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統,等離子增強原子層沉積設備;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統; - 光學膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統-PLD-納米壓印;-等離子清洗機、去膠機;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發機,化學沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業客戶:華為技術有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體, 蘇州稀晶半導體科技, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學, 汕頭大學, 南方醫科大學, 清華大學, 北京大學, 復旦大學, 西北工業大學, 南京醫科大學, 香港中文大學, 香港城市大學, 蘇州大學, 深圳職業技術學院, 南京大學合肥國家試驗室, 上海交通大學醫學院, 華南理工大學,華東師范大學,江南大學,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學, 深圳技術大學, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農業協同創新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導體設備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統,可用于開發快速熱退火和快速熱CVD工藝。可以搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。最高溫度1500 ℃,最快升溫速率200℃/Second。

AS-One是一種通用的RTP系統,可用于開發快速熱退火和快速熱CVD工藝。

可以搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。

最高溫度1500℃,升溫速率200℃/Second。

全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。

快速退火爐應用:

RTA(快速熱退火)

RTO(快速熱氧化)

歐姆接觸退火

植入退火

石墨烯和hBN的快速熱化學氣相沉積RTCVD

硒化,硫化

結晶和致密化

產品特點:

1、紅外鹵素燈管加熱,冷卻采用風冷(低噪音水平,無需壓縮空氣)

2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導致的后續使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現性及均溫性,即使在后續使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到最初的熱處理效果

3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設計,雙層不銹鋼

冷壁水冷技術優點在于:

1、無記憶

2、工藝重復性高

3、冷卻速度快

4、反應腔室的設計,氣體的進入口設計在wafer的表面,避免在退火過程中冷點的產生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性

5、快速數字PID控溫

6、熱電偶配合高溫計控溫,測試樣品的溫度

7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥

8、最多5路工藝氣體,配數字質量流量控制器

9、電腦通過以太網連接更快的數據傳輸速度

10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設計,用于小樣品測試

11、可選配分子泵,用于高真空測試

產品標準配置及規格參數:

1、樣品尺寸:AS-One100:4-inch;AS-One150 :6-inch;

2、溫度范圍:

AS-One100室溫~1250 ℃;(室溫~1500 ℃可選)

AS-One150室溫~1200 ℃;(室溫~1300 ℃可選)

3、升溫速率:

AS-One100 :0.1 ℃~250℃/s ;

AS-One150 :0.1 ℃~200℃/s ;

4、溫度控制:快速數字PID控制;

5、熱電偶:2個K型熱電偶;

6、低溫高溫計溫度范圍:150℃~1100℃;

7、高溫高溫計溫度范圍:400℃~1500℃;

8、工藝氣體氣路配質量流量計;

9、配置真空泵及真空規。

相關分類

氧化擴散設備


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