感應耦合電漿化學氣相沉積設備
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- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/7/10 13:40:41
- 訪問次數 791
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| 應用領域 | 環保,化工,電子/電池 |
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ICP-CVD 感應耦合電漿化學氣相沉積設備（ICP-CVD）是一種使用ICP的化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質量。因使用ICP做為電漿源，有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應速率較高等優點。
SYSKEY感應耦合電漿化學氣相沉積設備的ICP-CVD可以精準的控制製程氣體與監控其數據(壓力、載臺溫度)，並提供高品質的薄膜。
| 應用領域 | 腔體 |
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| 配置和優點 | 選件 |
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