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原子層沉積系統

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業文化,我們始終為用戶提供專業的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域 環保,化工,電子/電池

原子層沉積系統ALD 用於薄膜沉積的原子層沉積是基於順序使用氣相化學過程的最重要技術之一;它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積(CVD)。多數ALD反應使用兩種或更多種化學物質(稱為前驅物,也稱為“反應物”)。這些前驅物以一種連續的且自我限制的方式,一次與一種材料的表面反應。通過多個ALD循環,薄膜被緩慢沉積。 ALD為製造半導體元件的重要製程,並且是可用於合成納米材料主要工具的一部分。

原子層沉積系統ALD具有許多優點,例如出色的均勻性,在複雜形狀的基板表面上沉積的具有相同膜厚的膜保形性,低溫處理。因此,ALD被應用於微電子,納米技術和生物技術領域中,這些領域經常在有機和生物樣品之類的軟基底。上工作。


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