ALD實時監測儀RTM

ALD實時監測儀的優勢

工藝開發與優化

使用單一ALD循環可快速和簡易地開發和優化ALD工藝。ALD實時監測儀顯示了高達40ms分辨率的吸附和解吸過程。顯著節省了研發時間，襯底，前驅體和氣體。

節省前驅體

通過ALD實時監測儀，ALD工藝變得更加有效。節省了前驅體和工藝時間。

前驅體控制

當前驅體供應快要用盡時，ALD實時監測儀會立即檢測到的每個周期的增長變化。

SENTECH ALD實時監測儀是一種新型的光學診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ALD循環。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時間內開發新工藝、實時研究ALD循環中的反應機理是SENTECH ALD實時監測儀的主要應用。

創新的ALD實時監測儀是特別為快速和有效的工藝開發而設計，可優化SENTECH原子層沉積設備。該軟件使SENTECH ALD系統和ALD實時監測儀易于操作。ALD實時監測儀集成到SENTECH ALD系統軟件中，確保操作簡單。