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Phoenix G2 ALD System 全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 香港電子器材有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) Phoenix G2 ALD System
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2020/8/27 17:04:07
  • 訪問(wèn)次數(shù) 581

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香港電子器材有限公司 成立于一九八五年,是一間為亞太地區(qū)半導(dǎo)體、電子及光電產(chǎn)業(yè)提供設(shè)備、材料以及技術(shù)銷售與服務(wù)的公司。早在九零年代中就分別在中國(guó)臺(tái)灣和新加坡設(shè)立分公司,以加強(qiáng)在遠(yuǎn)東地區(qū)的銷售及服務(wù)能力。九零年代末期,亦在上海設(shè)立辦事處,以迎接廿一世紀(jì)中國(guó)地區(qū)高科技領(lǐng)域飛騰時(shí)代的來(lái)臨。到目前為止, 公司已于香港、新加坡、中國(guó)臺(tái)灣、馬來(lái)西亞及中國(guó)多個(gè)城市(包括北京、成都、大連、上海、深圳、蘇州、天津、武漢及西安)設(shè)有服務(wù)中心, 為客戶提供ZJ的服務(wù)。
香港電子 作為多種高科技設(shè)備制造商在遠(yuǎn)東地區(qū)的總代理,主要服務(wù)于半導(dǎo)體封裝廠、芯片生產(chǎn)廠、液晶顯示器廠、發(fā)光二極管廠、電路板廠,以及各大專院校和研究機(jī)構(gòu)。完善的售后服務(wù)是香港電子一直以來(lái)所秉持的原則,為了維持良好的售后服務(wù),工程師均定期的前往設(shè)備制造原廠接受培訓(xùn)或再培訓(xùn),務(wù)求能為客戶提供ZX的市場(chǎng)和產(chǎn)品信息,以及ZY質(zhì)的售后服務(wù)。

其中光學(xué)產(chǎn)品線:美國(guó)普林斯頓CCD、光譜儀,加拿大Sciencetech太陽(yáng)能模擬器、BNC延遲脈沖器、Gentec光電探測(cè)器、海洋光學(xué)光譜產(chǎn)品、Laser Quantum激光器、Crystalaser激光器、EOS紅外探測(cè)器、Sydor Instruments X射線超高速掃描照相機(jī) 

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美國(guó)普林斯頓CCD、光譜儀,加拿大Sciencetech太陽(yáng)能模擬器、BNC延遲脈沖器、Gentec光電探測(cè)器、海洋光學(xué)光譜產(chǎn)品、半導(dǎo)體前道產(chǎn)品、Crystalaser激光器、EOS紅外探測(cè)器、半導(dǎo)體后道產(chǎn)品

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,航空航天

全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué),05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購(gòu),并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止,Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn),已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。 

方式: Thermal batch ALD

優(yōu)勢(shì): 大批量熱ALD鍍膜,可靠成熟,設(shè)計(jì)靈活,易于使用,并具有許多操作界面,許多內(nèi)置安全功能

薄膜: 高達(dá)370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 對(duì)象自定義支架

設(shè)備尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm

功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)

ZG溫度: 可達(dá)285°C

沉積均一性: Al2O3 晶片<1.5% / Al2O3批量<1%

前驅(qū)體源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml

載氣/排氣: N2 or Ar MFC flow control

原位分析選項(xiàng): 臭氧發(fā)生器, LVPD,集成手套箱, 半自動(dòng)負(fù)載

自動(dòng)負(fù)載, SECS/GEM 界面

 



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