產品詳情

單片刻蝕設備

 - 滿足SEMI S2、SEMI S8和CE標準；

 - 結構合理緊湊，占地面積小；

 - 配置ULPA FFU ,帶CDS供液及回收系統， 自動補液配液（通常3種藥液）；

 - Chamber內正面2~3個Dispenser 及一個Fix Nozzle, 背面帶DI Nozzle；

 - MTTR: 小于60min，MTBF: 小500Hour；

 - 配置離子發生器及高清攝像頭；

 - 4~24 個腔體。

大家好！無錫亞電智能裝備有限公司是半導體晶圓行業濕法制程服務商，專注于晶圓前道濕法刻蝕清洗技術，是*批推進半導體設備國產化的企業之一。公司核心產品為6吋、8吋、12吋濕法刻蝕清洗設備，包括槽式設備和單片設備，涵蓋多種前道濕法工藝，如：B Clean，Oxide Remove,Nitride Remove,PRStrip,Particle Remove,Solvent Clean,Wafer Reclaim,Metal Etch等。此外，為應對個性化的清洗需求，公司還研發了多種輔助清洗機臺，如：爐管清洗機，片盒清洗機，部件清洗機，本地化學品供液設備，濕法工作臺，烘箱等。目前已與無錫上華、寧波中芯、廣州粵芯、無錫華虹、重慶華潤微電子等客戶達成友好合作。