磁控濺射與蒸發鍍膜2
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 沈陽美濟真空科技有限公司-J
- 品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2019/5/25 15:21:26
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產品標簽
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| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。
磁控濺射設備性能參數：
1、磁控濺射與蒸發鍍膜2 極限真空：2×10-6Pa。可鍍大直徑4英寸基片一片。恢復真空：從大氣到7×10-4Pa ≦30min（新平臺充干燥氮氣）。平臺總體漏率：關機12小時真空度≤1Pa。
分子束外延設備性能參數：
1、磁控濺射與蒸發鍍膜2 極限真空：5×10-7Pa。（配400L/S離子泵及2000L/S升華泵后極限真空可達2×10-8Pa）可鍍大直徑4英寸基片一片。恢復真空：從大氣到7×10-4Pa ≦40min（新設備充干燥氮氣），設備總體漏率：關機12小時真空度≤0.2Pa。
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