高真空蒸發鍍膜為方型室蒸鍍設備，可滿足用戶實現單質膜，多層膜及鍍制復合膜的工藝要求。

　　蒸鍍室是以電阻加熱的方式實現蒸發鍍膜功能的，它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜，適用于實驗室制備金屬、氧化物、介質、掃描電鏡制樣等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足院校的教學與科研

　　高真空蒸發鍍膜由于采用了超高真空密封技術，極限真空高，恢復工作真空時間短；整機主要采用金屬密封技術及超高真空閥門，前后開門采用氟膠圈，真空管路用不銹鋼金屬波紋管路，避免了傳統結構帶來的安裝維護困難的問題。

　　設備工作條件

　　1、供電：～380V三相供電系統（容量12KW），冷卻水循環量0.3M3/H，工作環境溫度10℃～40℃，冷卻水溫度15℃～20℃。

　　2、設備極限真空：5×10-5Pa；漏率：7×10-8Pa•L/S；工作真空：6×10-4Pa；恢復工作真空時間小于40分鐘（充干燥氮氣）。

　　3、基片轉速：5～30轉／分 連續可調。

　　4、基片尺寸4英寸，基片離蒸發源的間距為260mm±40mm。

　　5、設備安裝面積1.8m（L）x1.5m（B）x1.9m（H）。