Platens樣品臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 那諾中國(guó)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/4/28 10:25:51
- 訪問(wèn)次數(shù) 2235
產(chǎn)品標(biāo)簽
聯(lián)系方式：吳運(yùn)祥18916157635 查看聯(lián)系方式
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ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，晶圓清洗機(jī)，PA-MOCVD，飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 |
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NANO-MASTER Platens樣平臺(tái)
NANO-MASTER(那諾-馬斯特）Platens樣品臺(tái)，使用技術(shù)，加熱均勻性*。NANO-MASTER的樣平臺(tái)（或稱為基板、熱板）可以加入射頻偏壓、水冷卻、通過(guò)模塊控制700°C范圍的溫度。基板的高度可調(diào)節(jié)，基片可旋轉(zhuǎn)，真空腔體內(nèi)沒(méi)有任何引線。任何地方不會(huì)出現(xiàn)短路或電弧，因?yàn)樗幸€、電熱偶和冷卻水管道都保持在大氣壓下。NM樣品臺(tái)可以直接安裝到你的系統(tǒng)中，無(wú)論是RIE刻蝕、ICP刻蝕、ALE刻蝕，還是PECVD、ALD等沉積設(shè)備中，我們的基板都可以很方便的配套使用。
Platens樣品臺(tái)可應(yīng)用的設(shè)備：
- RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
- ICP感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)
- ALE原子層刻蝕設(shè)備
- PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備
- ALD原子層沉積設(shè)備
- 其他設(shè)備
?尺寸：
- 1-12英寸
- 可定制
Platens不同型號(hào)對(duì)應(yīng)溫度上限：
- NM-LTP，低溫?zé)岚澹瑉高可加熱到300°C
- NM-MTP，中溫?zé)岚澹瑉高可加熱到500°C
- NM-HTP，高溫?zé)岚澹瑉高可加熱到700°C
?Different models allow for different temperature limits:
- NM-LTP - Low Temperature Platen heatable up to 300°C
- NM-MTP - Mid Temperature Platen heatable up to 500°C
- NM-HTP - High Temperature Platen heatable up to 700°C
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