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2021
03-122021
03-042021
02-23高真空蒸發(fā)鍍膜儀可為薄膜應(yīng)用提供理想涂層平臺
高真空蒸發(fā)鍍膜儀可以為薄膜應(yīng)用和其他材料提供理想的涂層平臺,特別適用于場發(fā)射電子顯微鏡,透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網(wǎng)格支撐膜的樣品制備。是全自動程序控制,彩色觸摸屏界面,操作簡單,可以鍍金鉑和其他非氧化的貴金屬和其他易氧化膜材料的細(xì)顆粒。高真空蒸發(fā)鍍膜儀是具有靈活性和模塊化可擴(kuò)展性的多功能系統(tǒng),可以適應(yīng)不同的樣品制備。它可用于蒸發(fā)蒸籠和坩堝中的碳和金屬,以及可選的濺射附件蒸發(fā)。可以應(yīng)用一系列行之有效的技術(shù),包括碳涂層和TEM涂層,碳/金屬蒸發(fā),使用雙源蒸發(fā)的低角度涂層和順序涂層,以及可選2021
02-192021
02-17超聲波霧化模塊應(yīng)該如何更好地控制參數(shù)?
噴涂一直存在于我們的生活中,并已長期用于多種用途,包括噴涂裝飾性和保護(hù)性涂料。因此,這是材料科學(xué)家可用于薄膜制備的另一種工具。在噴涂中,噴嘴尺寸,噴涂形狀,噴嘴到基材的距離,噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱是可以控制以實(shí)現(xiàn)效果的參數(shù)。使用超聲波噴嘴,可以將噴霧溶液均勻化,可以有效控制液滴大小(噴嘴頻率會影響液滴大小),并且可以分配微霧量,以確保組成和結(jié)構(gòu)的均勻性以及精度所得的膠片和圖案。物料浪費(fèi)保持在水平,設(shè)備操作員的風(fēng)險(xiǎn)很小。超聲波霧化模塊利用超聲能將液體或凝膠分散成微米大小的顆粒,其特點(diǎn)是噴霧2021
02-092020
10-22學(xué)點(diǎn)基礎(chǔ)的,對于扣式電池切片機(jī)你了解多少?
扣式電池切片機(jī)專門用于紐扣電池生產(chǎn)過程中的正負(fù)片或隔膜打孔過程。它使用高硬度模具,易于使用且經(jīng)久耐用,沖孔邊緣光滑無毛刺。適用于高校和企業(yè)實(shí)驗(yàn)用。那么,您對此了解多少?1、工作原理在扣式電池切片機(jī)的操作過程中,手動控制搖桿以驅(qū)動滑塊和上模產(chǎn)生向下的脈沖。當(dāng)上模具的彈簧壓塊接觸下模具時,按下放置在下模具中的極靴或隔膜,上模具繼續(xù)向下移動,將極靴或隔膜沖切成大小為圓形的圓形的模具。配備了人性化的卸料裝置,您可以用手握住卸料手柄,將抽屜拉出并將成品從模具中推出,然后將成品從模具中推出,操作簡便。2、主2020
09-17高真空蒸發(fā)鍍膜儀的設(shè)計(jì)讓其操作更容易實(shí)現(xiàn)
高真空蒸發(fā)鍍膜儀是全自動程序控制,彩色觸摸屏界面,操作簡單,它可以鍍金(AU),鉑(PT)和其他非氧化的貴金屬,也可以鍍銥(IR),鉻(CR),鋁(AL)和其他易氧化膜材料的細(xì)顆粒。它特別適用于場發(fā)射電子顯微鏡,透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網(wǎng)格支撐膜的樣品制備,還可以為薄膜應(yīng)用和其他材料領(lǐng)域提供理想的涂層平臺。高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種多功能系統(tǒng),具有靈活性和模塊化擴(kuò)展性,可適應(yīng)不同的樣品制備,它可用于從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件進(jìn)行碳蒸發(fā)和金屬蒸發(fā)。可以應(yīng)用一系列行之有效的技術(shù),包括碳鍍層2020
08-141100℃微型箱式爐是多種工礦作業(yè)的理想產(chǎn)品
1100℃微型箱式爐使用只能溫度控制系統(tǒng),該溫度控制精度可達(dá)±1℃。另外,采用側(cè)開式爐門結(jié)構(gòu),方便客戶取放樣品。隔熱材料是通過真空吸附形成的氧化鋁纖維無機(jī)材料,既環(huán)保又節(jié)能。爐體采用雙層風(fēng)冷機(jī)構(gòu)。當(dāng)爐子達(dá)到高溫度時,爐殼表面溫度低于60℃。該爐由多種保溫材料制成,因此體積小,能耗低。1.1100℃微型箱式爐具有體積小,重量輕,溫度場平衡,溫升降速快,節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。2.工作溫度:1200-1300℃(短時間為1400℃)。3.額定電壓:ac220v50/60Hz。4.模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)。5.2020
07-222020
06-182020
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07-062016
07-062016
07-06等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法
等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
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