光刻機又名掩膜對準曝光機，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設備。其主要用途是生產集成電路，將設計好的集成電路模板復刻到硅晶圓上，從而生產出微小、精確、高效率的集成電路。

根據光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統掩膜版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光，實現圖案的轉移，能夠更快速地制造特定產品、降低成本，除了能夠滿足傳統的2D光刻需求外，還能實現2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優點，使其被廣泛應用于科學研究、定制化生產、快速原型制造、電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等領域。

科研版無掩膜光刻機

高靈活性、高精度、無掩膜的優勢，非常適用于科學研究。

ACA系列是科研版無掩膜光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究的選擇。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩定，上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持，助力科學研究領域的發展和創新。

ACA無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

ACA Pro無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

ACA Master無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

掃描光刻/步進光刻 可切換

無掩膜光刻機

高速版無掩膜光刻機

更快的加工速度、更強的設備性能，適用于小批量生產制造。

Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其配備了高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎上，擁有了更高的光刻效率。其性能特點使其特別適合小批量生產的場景。在該場景中，它能夠發揮出其高效的優勢，為生產帶來更高的效率和更好的質量。Speed 系列為相關產業提供了更優質的選擇，滿足了市場對于高效率、高質量生產的需求。

S無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1μm

8英寸光刻面積

高速掃描光刻

無掩膜光刻機

S+無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.5μm

8英寸光刻面積

支持掃描/步進雙模式

無掩膜光刻機

生命科學無掩膜光刻機

更短的波長、更大的深寬比，適用于高深寬比的厚膠工藝。

BIO系列是生命科學版的無掩膜光刻機，該設備具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現，可確保芯片的質量和性能。這使得它成為生命科學研究和相關應用中的重要工具。BIO 系列的出現為生命科學領域帶來了新的機遇，有助于推動相關技術的發展和創新，為科學研究和實際應用提供有力支持。

BIO無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1μm

高深寬比

無掩膜光刻機

教育版無掩膜光刻機

桌面型無掩膜光刻機，靈活小巧，非常適用于微電子、集成電路等加工制造的實驗課程。

TTT-07-UV Litho-Y是一款桌面型無掩膜光刻機，該機器具備了無掩膜光刻機的諸多優點，桌面型的設計使其便于教學使用。不僅如此，該設備還針對教育場景進行了優化，簡化操作流程，讓學生更容易上手。通過該設備，學生可更直觀地了解光刻技術，掌握光刻加工工藝，提升實踐能力，為未來的科研工作打下基礎。Y在教育領域的應用，有助于培養更多優秀的科技人才。

Y無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1.2μm

2英寸光刻面積

桌面型光刻機

無掩膜光刻機