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應用領域：
1.快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
2.離子注入/接觸退火；
3.金屬合金；
4.熱氧化處理；
5.化合物合金(砷化鎵、氮化物等)；
6.多晶硅退火；
7.太陽能電池片退火；
8.高溫退火；
9.高溫擴散。
設備說明：
快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。
真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。
加熱室：加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
進氣系統(tǒng)：真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。
真空系統(tǒng)：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內的被處理工件。
溫度控制系統(tǒng)：溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
氣冷系統(tǒng)：真空腔室的冷卻是通過進氣系統(tǒng)向腔室內充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求。
水冷系統(tǒng)：水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。
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