電子背散射衍射（EBSD）技術是一種基于掃描電子顯微鏡的強大晶體學分析工具，可用于晶粒取向鑒定、相鑒定、晶界識別、織構分析、應力和應變分析，晶粒大小和形態分析，動態過程研究，三維晶體分析等。
現代EBSD技術在20世紀90年代初取得了商業化突破并成功進入市場，經過三十多年的發展，EBSD的廣泛應用還面臨一些挑戰，包括工作流程復雜，分析敏感材料困難，需要有經驗的技術人員參與等，為了應對這些挑戰并使EBSD技術更加普及，賽默飛世爾科技重磅推出Thermo Scientific™ TruePix™ EBSD探測器，這是一款集高速與高靈敏度為一體的直接電子探測器。TruePix探測器與Apreo ChemiSEM掃描電子顯微鏡和TrueSight能譜儀工作流程無縫配合，一體化地實現形貌觀察、元素分析以及晶體學分析。
產品介紹
TruePix EBSD是一款搭配在Apreo ChemiSEM掃描電鏡上的混合像素直接電子探測器，直接電子探測器像素尺寸為256 x 256，TruePix探測器的發布實現了在同一個計算機平臺上進行SEM、EDS和EBSD測試，無需外部電子束控制或電腦間的通訊連接，即可實現快速安全操作，最高可實現采集速度2000pps。
TruePix探測器采用了混合像素直接電子探測器, 由于直接電子探測器能夠直接記錄電子信號，而不需要中間的磷光屏或光學傳輸，從而減少了信號損失，因此具有更高的探測效率。
TruePix直接電子探測器
TruePix混合像素探測器由256x256像素點組成。每個像素點都有獨立的電路，且能進行單電子計數，直接電子探測器相比傳統的背散射電子衍射儀有以下主要優勢：
集成一體化
此外，賽默飛推出的TruePix探測器的發布使得SEM與EBSD探測器、后期圖像處理軟件能整合在同一平臺，帶來更便捷的操作和更好的用戶體驗。
TruePix EBSD在不同的WD和DD下都有很高的標定率
賽默飛提供EBSD樣品制備、EBSD采集、
數據處理一系列完整的工作流程
EBSD樣品制備的質量直接影響數據的準確度和標定率。EBSD花樣采集過程中，衍射信號來自樣品表面以下幾十納米的深度范圍，用于EBSD測試的樣品需表面平整、清潔且沒有殘余應力，否則會影響衍射花樣的采集以及EBSD的后續分析。常見的用于EBSD樣品制備的方法有機械拋光、電解拋光、FIB樣品制備及氬離子拋光。其中氬離子拋光是一種樣品適用性高的方法，賽默飛世爾科技推出的CleanMill氬離子拋光儀能與Apreo ChemiSEM以及TruePix EBSD集成在一個工作流程中，即使對于空氣敏感樣品和電子束敏感樣品也能輕易解決其痛點。
應用案例
TruePix EBSD適用于各類金屬、合金、陶瓷、礦物、鋰電、地質、半導體、薄膜、復合材料等樣品。
優勢總結
TruePix EBSD直接電子探測器是一款全新的集成于SEM的一體化EBSD，它能實現快速、準確的EBSD數據分析，實現更高信噪比的數據采集。
適合電子束敏感材料分析，有單電子計數功能，實現準確電子劑量控制。
低電壓性能，允許使用更小的相互作用體積進行分析，因此具有更高的空間分辨率。
靈敏度高，即使是低電子劑量下也能采集到高信噪比的信號，在鎳金屬上的標定速率等效于>3,000 點/秒/納安。
高通量，可實現每秒2000點的標定速度。
更多內容，歡迎您觀看TruePix EBSD直接電子探測器研討會。
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