再訂兩臺，CPS高精度納米粒度儀獲得鼎龍控股認可！
2023年新春伊始，我司與化學機械拋光液頭部企業鼎龍控股達成兩臺CPS高精度納米粒度儀的采購合同。鼎龍控股稱，這兩臺新采購的CPS納米粒度儀將用于新建化學機械拋光CMP拋光墊項目（三期）及年產1萬噸清洗液項目。至此，鼎龍股份一共采購了三臺CPS高精度納米粒度儀，并升級添加了全自動密度梯度液生成器，在納米粒度分析能力上得到了顯著提升。儒亞科技（北京）有限公司將一如既往地為鼎龍股份提供優質的售后服務支持，支持國內CMP領域的發展！
據報道，在2021年1月14號鼎龍股份發布公告“為提高公司在光電半導體核心進口替代類工藝材料產業中的競爭實力，更好服務國內芯片制程客戶及面板顯示材料需求，公司擬與湖北省潛江市江漢鹽化工業園管委會簽署相關合作協議，擬同意公司全資子公司—湖北鼎龍匯盛新材料有限公司使用自有或自籌資金在湖北省潛江市江漢鹽化工業園長飛大道1號建設鼎龍潛江光電半導體材料產業園（暫定名），具體實施：集成電路CMP用拋光墊項目（三期工程50萬片/年），以及年產1萬噸集成電路制造清洗液項目。"
鼎龍股份公司近年一直圍繞集成電路核心CMP全局平坦化工藝材料作為發展重點和延展方向，相關進展符合公司預期。經過幾年鼎龍旗下專業化團隊的持續研發及客戶測試、產業化前期準備，公司清洗液項目具備產業化實施條件。隨著邏輯客戶制程不斷縮進和存儲客戶拋光層數的不斷增加，對清洗液的需求將不斷提高，先進制程的清洗液絕大多數掌握在兩家美國公司手中，公司擬實施CMP后清洗液（即：金屬薄膜拋光后配方清洗液）和光刻膠蝕刻后清洗液項目的產業化，將有效解決國內該系列產品嚴重依賴海外進口的卡脖子問題。
年產1萬噸集成電路制造清洗液項目建設首期投資為20,000萬元人民幣（項目總計劃投資額預計為40,000萬元人民幣，擬分兩期實施），建設總工期預計為30個月。規劃建筑面積28,994平方米，建設生產車間4,500平方米，辦公樓5,000平方米及倉庫，購置CPS高精度納米粒度分析儀、混配機、自動投料機、Zeta電位儀、顆粒計數器等儀器設備92臺，建設配套設施，建成年產清洗液1萬噸。
CMP典型的拋光漿料（清洗液）都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，60 - 80nm)、氧化鈰(6Vol %，200 - 240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。這種納米漿料的使用濃度一般在(5- 30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生
CPS納米粒度分析儀（左圖為自動進樣系統，右圖為自動密度梯度液進樣器）
CPS高精度納米粒度分析儀（DC24000UHR）是最新型的納米粒度分析儀，它采用高速離心沉降法，通過斯托克斯定律V = D2(ρP -ρF) G / 18 η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來。
適用于極稀到高濃度的樣品粒度測定，對團聚體的存在非常敏感。獲得一大批領頭企業的認可，如深圳華為、西安隆基綠能、大連Inter、上海默克光電、韓國三星半導體、上海陶氏化學、上海杜邦、安集微電子、羅門哈斯電子材料、蘇州納微新材料、芯越微電子材料等一波半導體企業的認可。
CPS高精度納米粒度分析儀已經列入ISO標準和國標，包括《金屬粉末粒度分布的測量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等
CPS高精度納米粒度分析儀主要技術參數：
分析速度可選： 12000 RPM、18000 RPM、24000 RPM
測量范圍： 0.005-75μm
標準分析圓盤： CR-39聚合物耐腐蝕材質（耐有機溶劑和水溶液）
光源： 405nm LED
分辨率： 1%，可達0.1納米
可選配置：
全自動密度梯度液生成器（型號AG300）
低密度樣品分析圓盤、
變速圓盤
標定用標準顆粒
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