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我司銷售的近正常光譜反射儀（HO-NNSR-02）
閱讀：129 發布時間：2024-12-3近正常光譜反射儀是用于工業和研究領域薄膜厚度分析的基本儀器。Holmarc 的 NNSR（型號：HO-NNSR-02）能夠高速、高重復性地分析薄膜
厚度、復折射率和表面粗糙度。NNSR 理論采用菲涅爾方程的復雜矩陣形式。絕對反射光譜是反射儀的原理，即反射光束（通常為多色）的強度與
入射光束強度的比值。通常入射到樣品表面的光束會從薄膜的頂部和底部反射出來，這些光束會受到干擾，并通過光纖（雙纖光纖）經計算機傳導
到連接光譜儀的 CCD 上。在監視器上，我們可以看到與薄膜厚度成正比的干涉振蕩光譜圖。
規格
薄膜厚度范圍：25 納米 - 3.5 微米
FFT 厚度范圍：3500 納米 - 35 微米
光譜儀波長范圍：340 納米 - 940 納米
反射波長范圍：390 納米 - 940 納米
光源：鹵鎢燈石英燈，20 和 50 瓦（定制）
探測器：CCD 線性陣列，3648 像素
傳輸方式：雙纖（玻璃芯和 PMMA 包層］
薄膜疊層精度：± < 1 nm
同一疊層的精度：± < 2 nm（無粗糙度）（與 SEM 比較）
樣品上的光斑尺寸：120 微米（使用 5 倍 SLWPA 物鏡
工作距離：3 毫米
光纖：帶 SMA 的多模雙芯光纖
掃描：手動（千分尺控制 15 毫米掃描）
參考樣品：裸 NSF66 / 裸鋁（定制） / 普通玻片
深色樣品：N-Bk7 黑色涂層/保持 45° 的鋁鏡（定制）
標準樣品：NSF-66 基底上的 SiO2 薄膜 / Bk7 基底
測量模式 ： 曲線擬合/回歸算法、FFT、FFT + 曲線擬合
分散公式：Cauchy、Sellmeier 和經驗模型
EMA 模型：線性 EMA、Bruggemann、Maxwell Garnett 模型
PC 接口：USB
特點
分析單層和多層薄膜（間接法）
光纖探頭用于測量正常入射角的反射率。
CCD 線性陣列探測器，用于絕對反射率測量。
采用 Levenberg - Marquardt 曲線擬合算法進行厚度測量。
基于 FFT 的厚層厚度測量，PET 薄膜標準化。
用于粗糙度測量的線性、布魯格曼和麥克斯韋石榴石近似模型。
吸收和透射研究。
針對 n 和 k 值的參數化分散模型，如 Cauchy、sellimier、組合和 drude。
用戶可擴展材料庫
數據可保存為 Excel 文件，用于提取光學特性