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一、產品介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。

二、基本參數

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）

文件格式：STL

系統外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應用領域

類巴基球結構

應用領域：生物醫藥

特 點：整體尺寸： 0.2 × 0.2 × 0.2 mm3

桿徑：10 μm

中空多孔結構

微點陣

應用領域：力學超材料

特 點：整體尺寸： 1.2 × 0.8 × 0.6 mm3

桿徑：8 μm

懸空結構無支撐打印

3D打印微針、傾斜微針結構

應用領域：仿生材料

特 點：整體尺寸：10.8 × 6.7 × 1.5 mm3

最小jian端直徑：15 μm

可自由調控jian端尺寸及角度

微流控器件

應用領域：藥物篩選、生物檢測

特 點：整體尺寸：35 × 15 × 6 mm3

管道直徑：400 μm

復雜三維微流道