首頁 >> 公司動(dòng)態(tài) >> 報(bào)名中 | 紅外光譜技術(shù)在硅材料質(zhì)控分析中的應(yīng)用（英文）
在許多應(yīng)用領(lǐng)域，如可再生能源（光伏或氫氣技術(shù)）、航空航天和電子領(lǐng)域，半導(dǎo)體（尤其是硅）是不可少的基礎(chǔ)材料。為了保證高效率和產(chǎn)品質(zhì)量，以雜質(zhì)的識(shí)別和定量、缺陷的檢測(cè)或光學(xué)器件的功能測(cè)試為形式的硅質(zhì)量控制成為半導(dǎo)體工業(yè)中一項(xiàng)關(guān)鍵而艱巨的任務(wù)。
該系列網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)分為兩部分，在下周的第二場(chǎng)中，我們將向您介紹使用傅立葉變換紅外光譜進(jìn)行半導(dǎo)體質(zhì)量控制的高靈敏度解決方案，歡迎屆時(shí)參加。
主題：
High sensitivity Silicon QC using FT-IR Spectroscopy
語言：英文（English）
時(shí)間：
第二場(chǎng)：6月21日（周一） 晚上10點(diǎn)-11點(diǎn)
第二場(chǎng)（重播）： 6月22日（周二）下午3點(diǎn)-4點(diǎn)
（*以上為北京時(shí)間）
會(huì)議使用GOTOWEBINAR平臺(tái)，由布魯克德國紅外應(yīng)用專家主講。
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