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離子濺射儀（噴金儀）產品簡介：1、人性化設計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。3、鍍膜均勻細密，適用于多種靶材。4、樣...

離子濺射儀的離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速...

小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶...

全自動離子濺射儀是一種功能強大的電子設備，經常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面，然后通過檢測生成的離子進行分析。

實驗室噴金儀1、人性化設計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。3、鍍膜均勻細密，適用于多種靶材。4、樣品臺可以快速調節，...

離子濺射儀（噴金儀）產品簡介：全自動離子濺射儀1、人性化設計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。3、鍍膜均勻細密，適用于...