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　　色譜分析一直以來都是氣體質量控制的重要手段之一，但對5N及5N以上純度的高純、超純氣體和高純度的電子工業用氣體等樣品的分析卻是色譜分析的難點，不僅樣品中需要檢測的雜質種類繁多且含量極低，而且空分產品中的雜質容易被空氣組分污染需要長時間的吹掃置換，電子工業用氣體存在易吸附、腐蝕性、遇水結晶、遇水改變特性等諸多特征。

　　

　　LX-3200-PDD氦離子化氣相色譜儀因應上述問題而開發，產品采用全新的工業設計，配備擁有超高靈敏度的脈沖放電氦離子化檢測器，將待檢組分的響應提升至ng/g級（10-9）；采用超低泄露率的卡套或VCR接頭連接帶有吹掃保護氣路的進樣閥，將樣品與空氣有效隔離，避免空氣污染；真空負壓取樣系統大大減少樣品的置換次數的同時，也可以避免電子工業用氣體中的Sicl4、HF、SiH4遇水的輻射性及結晶；EP級管路及經特殊處理的色譜柱擔體等技術的應用，避免了樣品吸附對分析的影響。

　　

　　LX-3200-PDD氦離子化氣相色譜儀采用由多個吹掃型進樣閥及多根色譜柱組成的多閥多柱的中心切割與反吹分離技術，通過色譜工作站設置的時間程序自動控制其進樣、切換、切割與反吹等過程，一臺儀器就可以實現對高純氮、高純氬、高純氧、高純氦、高純氫、高純二氧化碳、氪氣、氙氣、氖氣等空分高純氣體的分析；也可以針對三氟化氮、六氟化硫、六氟化鎢、三氯化硼、氯化氫、磷硼砷硅鍺烷等電子工業用氣體制定特定的分析方案。

　　

　　典型分析：

　　

　　一、空分(ASU)行業

　　

　　1、高純O2、N2、Ar中雜質（H2/O2/N2/Ar/CH4/CO/CO2）分析；

　　

　　2、液O2液Air中烴類物質(C2H2、N2O、THC、C1-C4)分析；

　　

　　3、稀有氣體He、Ne、Kr、Xe中雜質(N2/O2+Ar/H2/CO/CO2/CH4/Kr/Xe/N2O/C2F6/CF4/SF6)分析；

　　

　　二、特種氣、電子氣行業

　　

　　1、H2中雜質(N2/O2+Ar/CO/CO2/CH4）分析,

　　

　　2、腐蝕性氣體：Cl2、HCl、HBr、NH3、SiH4、SiHCl3、SiH2Cl2、AsH3、PH3、GeH4、BF3、BCl3、NF3、WF6等

　　

　　3、鹵化物：C3F8、C4F8、SF6、NF3、CF4、C2F6等

　　

　　4、CO2、H2、He

　　

　　5、氦離子化檢測器（PDHID）

　　

　　檢測器是一個無破壞性（0.01～0.1%電離）和高靈敏的非放射性檢測器。其檢測限在皮克數量級范圍，對幾乎所有無機和有機化合物均有很高的響應。

　　

　　He+e-®He++2e-

　　

　　®He2*

　　

　　®2He+hv(12-21eV)

　　

　　+A®A++e-

　　

　　脈沖放電氦離子化檢測器（PDHID）優點：

　　

　　1、基線及響應穩定、檢測器壽命長；

　　

　　2、同一PDHID可運行不同的模式；

　　

　　3、高靈敏度；

　　

　　4、寬線性范圍；

　　

　　5、不用放射性物質,不用氫氣；

　　

　　6、工作溫度可達400℃；

　　

　　7、對樣品沒破壞性；

　　

　　8、結構結實,不用特殊維護。