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安捷倫Agilent 渦輪分子泵

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  • 安捷倫Agilent  渦輪分子泵

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參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 Turbo-V 2K-G
  • 品牌 Agilent/安捷倫
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 杭州市

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更新時間:2025-05-22 11:13:13瀏覽次數:496

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產品簡介

產地類別 進口 產品類型 有油泵
價格區間 5萬-10萬 儀器種類 分子泵
安捷倫Agilent 渦輪分子泵 Turbo-V 2K-G 它是專門為等離子濺射工藝精心設計的分子泵系統。其葉片級數和泵的整體結構均經過優化,可以工作在高氬氣氛圍下和溫度*的環境中。此外,它還擁有內置的控制器件、一體化的放空和充氮氣保護閥以及免維護的軸承。所有這些特點使 Agilent Turbo-V 2K-G 成為鍍膜工業出色泵解決方案。

詳細介紹

安捷倫Agilent  渦輪分子泵? Turbo-V 2K-G 不僅僅是一臺泵。它是專門為等離子濺射工藝精心設計的分子泵系統。其葉片級數和泵的整體結構均經過優化,可以工作在高氬氣氛圍下和溫度*的環境中。此外,它還擁有內置的控制器件、一體化的放空和充氮氣保護閥以及免維護的軸承。所有這些特點使 Agilent Turbo-V 2K-G 成為鍍膜工業出色泵解決方案。

 

安捷倫Agilent  渦輪分子泵 ?特性:

1、為薄膜沉積應用而專門設計的分子泵解決方案

2、現有的高性能、較緊湊的儀器

3、*個采用*集成的方法大程度提高系統效率和正常運行時間的渦輪分子泵

4、將渦輪分子泵、驅動器件、電源、MoniTorr、吹掃氣裝置和通信裝置集于一身

5、通用電子器件接口并配有操作簡單的控制軟件模擬 I/O 信號以及 RS232/RS485 接口等標準配置

6、安捷倫 Profibus 接口(可選)

7、采用了安捷倫 A-PLUS 軟件(原 T-plus)

渦輪分子泵應用范例:

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵,其設計旨在實際應用中達到高性能。泵的緊湊型設計滿足工業中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護,并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商,安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持,或定制適合您的需求的系統。

 

典型渦輪泵應用:

領域詳細說明應用
質譜和分析儀器
  • 針對質譜系統優化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵組的定制泵
  • 低成本、易于使用、高分析性能
  • 對于 GC/MS,提供用于相對低氣體載荷環境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
  • 對于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系統
  • 對于 ICP-MS,提供多種真空系統,包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
  • 對于 TOF 系統,需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備
  • 質譜
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF
科研中的真空應用
  • 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
  • 粗真空軸承未暴露于 UHV,降低了污染
  • 高速和高壓縮
  • 可以以任意角度安裝
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 高能物理
  • 融合技術
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器
工業真空加工
  • 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
  • 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業性能
  • 適用于具有預真空鎖或大型內聯連續系統的單室批量系統和多室系統的泵

薄膜沉積:

  • 玻璃涂層設備(建筑和汽車玻璃,平板顯示器)
  • 薄膜太陽能電池生產(光電)
  • 光學數據介質(CD、DVD、磁光光盤)
  • 磁性存儲介質
  • 表面處理
  • 光學涂層(眼科、精密光電)
  • 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

設備加工:

  • 生產電視機和顯示器顯像管
  • 疏散燈(高速公路照明、投影機)
  • X 射線管和電子設備

一般工藝:

  • 真空爐/冶金
納米技術儀器
  • 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質
  • 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統
  • 低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析
  • 可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體
  • 集成的泵控制器可靈活進行控制,幾乎不生成電磁噪音
  • 非常適合為半導體生產創造合適環境
  • 高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體(He、H)
  • 符合高速循環應用的嚴格要求,例如真空裝載鎖
  • 通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵,可提高工具的可靠性
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處
  • 電子顯微鏡(SEM、TEM)
  • 聚焦離子束系統 (FIB)
  • 表面分析
  • 半導體制造

 

技術規格:

抽速:

N2:1600 L/s

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壓縮比:N2:3 × 105 
極限真空*(使用推薦的前級泵)< 1 × 10-8 mbar 
入口法蘭ISO 250F 
前級管道法蘭KF 40 NW 
額定轉速33000 rpm 
啟動時間< 7 分鐘 
推薦的前級泵> 40 m3/h 
工作位置任意位置 
操作環境溫度+5 °C 至 +40 ℃ 
電源
輸入電壓
輸入頻率
100–240 Vac
50-60 Hz
 
通訊接口模擬 I/O
RS232/RS485
Profibus
標準
標準
可選
尺寸

高度
重量
直徑

335 mm(13.18 英寸)
335 mm(13.18 英寸)
35 kg(77 磅)

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